[发明专利]一种反射式共聚焦显微成像系统

权利要求书

1.一种反射式共聚焦显微成像系统，其特征在于，包括：激光光源模块、偏振片模块、PBS分光棱镜、振镜扫描模块、扫描透镜、光纤软管、光纤束模块、1/4波片、物镜、针孔透镜及探测模块；

所述偏振片模块包括第一偏振片及第二偏振片，所述第一偏振片及第二偏振片用于调节入射的激光光强，所述光纤束模块、1/4波片及物镜收容于光纤软管内，所述探测模块的前端面设置有探测针孔；

所述激光光源模块出射的激光经所述第一偏振片及第二偏振片后进入所述PBS分光棱镜，所述PBS分光棱镜对入射的激光进行分光，并使S光最大程度的反射在所述振镜扫描模块上；所述振镜扫描模块对入射的激光进行点扫描，使激光以不同角度进入所述扫描透镜后再入射进入所述光纤软管，随着所述振镜扫描模块的扫描角度不同，所述光纤软管内光纤束模块的光纤束被依次点亮，所述光纤束将激光传送至所述1/4波片后再进入所述物镜并通过所述物镜聚焦于样本上；

经所述样本反射产生的激光再依次经所述物镜、所述1/4波片、所述光纤束模块后所述扫描透镜后入射进入所述PBS分光棱镜，所述PBS分光棱镜透射该反射产生的激光，并通过所述针孔透镜聚焦于所述探测模块前端面的探测针孔处。

2.根据权利要求1所述的反射式共聚焦显微成像系统，其特征在于，所述激光光源模块用于提供近红外线偏光光源。

3.根据权利要求1所述的反射式共聚焦显微成像系统，其特征在于，所述振镜扫描模块包括共振振镜以及检流计振镜，通过所述共振振镜及检流计振镜的配合实现二维扫描。

4.根据权利要求1所述的反射式共聚焦显微成像系统，其特征在于，经所述振镜扫描模块后入射进入所述光纤束模块的光纤束的端面截面处于主像面。

5.根据权利要求1所述的反射式共聚焦显微成像系统，其特征在于，所述探测模块为雪崩二极管信号探测器。

6.根据权利要求5所述的反射式共聚焦显微成像系统，其特征在于，还包括信号连接于所述雪崩二极管信号探测器的分析模块，所述分析模块用于获取所述雪崩二极管信号探测器探测的信号，并对所述信号进行分析。