[发明专利]酸不稳定超支化共聚物和相关联的光致抗蚀剂组合物以及形成电子器件的方法

权利要求书

1.一种酸不稳定超支化共聚物，其包含共聚合单体的产物，所述单体包含

具有以下结构的酸不稳定双官能单体

其中R¹在每次出现时独立地为氢、氟、甲基、三氟甲基或氰基；R²和R³在每次出现时独立地为氢、未经取代或经取代的C_1-18直链或支链烷基、未经取代或经取代的C_3-18环烷基、未经取代或经取代的C_6-18芳基，或未经取代或经取代的C_3-18杂芳基，并且R²和R³不共价连接，或彼此共价连接以形成包括—R²—C—R³—的环；L¹、L²和L³在每次出现时独立地为未经取代或经取代的C_1-8亚烷基、未经取代或经取代的-C(＝O)-C_1-8亚烷基、未经取代或经取代的-C(＝O)-(C_1-8亚烷基)-C(＝O)-、未经取代或经取代的-(C_1-8亚烷基)-O-(C_1-8亚烷基)-、未经取代或经取代的-C(＝O)-(C_1-8亚烷基)-O-(C_1-8亚烷基)-，或未经取代或经取代的-C(＝O)-(C_1-8亚烷基)-O-(C_1-8亚烷基)-C(＝O)-；X在每次出现时独立地为1,2-亚苯基、1,3-亚苯基、1,4-亚苯基或-C(＝O)-O-，其中所述羰基碳键结到自身键结到R¹的相邻碳原子；并且x为1、2或3；以及

单(甲基)丙烯酸酯，其包含碱溶解度增强单(甲基)丙烯酸酯、酸不稳定单(甲基)丙烯酸酯、光酸产生单(甲基)丙烯酸酯，或其组合

以形成共聚物。

2.根据权利要求1所述的共聚物，其中L¹、L²和L³在每次出现时独立地为C_2-4亚烷基，并且X在每次出现时为-C(＝O)-O-，其中所述羰基碳键结到自身键结到R¹的相邻碳原子。

3.根据权利要求1或2所述的共聚物，其中R²和R³在每次出现时独立地为氢、甲基或乙基；或R²和R³彼此共价连接以形成四亚甲基(-(CH₂)_4-)或五亚甲基(-(CH₂)₅-)。

4.根据权利要求1或2所述的共聚物，其中x为1。

5.根据权利要求1或2所述的共聚物，其中所述酸不稳定双官能单体具有以下结构

其中R¹、R²、R³和L如权利要求1定义。

6.根据权利要求1或2所述的共聚物，其重均分子量为10,000到1,000,000克/摩尔。

7.根据权利要求1所述的共聚物，其中所述酸不稳定双官能单体选自由以下各项组成的群组：

及其组合。

8.根据权利要求1所述的共聚物，其中所述单体包含

5摩尔％到30摩尔％的所述酸不稳定双官能单体，

20摩尔％到88摩尔％的所述碱溶解度增强单(甲基)丙烯酸酯单体，

5摩尔％到50摩尔％的酸不稳定单(甲基)丙烯酸酯单体，以及

2摩尔％到20摩尔％的所述光酸产生单(甲基)丙烯酸酯单体。

9.一种光致抗蚀剂组合物，其包含根据权利要求1到8中任一项所述的共聚物。

10.一种形成电子器件的方法，其包含：

(a)将一层根据权利要求9所述的光致抗蚀剂组合物涂覆在衬底上；

(b)使所述光致抗蚀剂组合物按图案逐步暴露于活化辐射；以及

(c)使所述暴露的光致抗蚀剂组合物层显影，以提供抗蚀剂浮雕图像。