[发明专利]一种离子印迹化浸渍树脂及其制备方法

权利要求书

1.一种离子印迹化浸渍树脂制备方法，其特征在于：具体步骤如下：

(1)将配体溶于有机溶剂中，加入模板离子，生成模板离子配合物；

(2)向步骤(1)所得模板离子配合物的有机溶液中加入大孔树脂基底，静置1-500h，用旋转蒸发仪除去有机溶剂；

(3)向步骤(2)所得的负载模板离子配合物的大孔树脂基底中加入淋洗剂将模板离子去除，干燥。

2.根据权利要求1所述的离子印迹化浸渍树脂制备方法，其特征在于：所述步骤(1)中配体为二(2-乙基己基)磷酸酯(P204)、2-乙基己基磷酸-2-乙基己基酯(P507)、二(2,4,4’-三甲基戊基)次膦酸(Cyanex 272)、二(2,3-二甲基丁基)次膦酸、二(2-乙基己基)次膦酸、(2,3-二甲基丁基)(2,4,4’-三甲基戊基)次膦酸、磷酸三丁酯、Cyanex 923、二(2,4,4’-三甲基戊基)二硫代膦酸(Cyanex 301)、二(2,4,4’-三甲基戊基)一硫代膦酸(Cyanex 302)、8-羟基喹啉及其二卤代衍生物、双硫腙、水杨酸、2-羟基-5-壬基苯甲醛肟、5,8-二乙基-7-羟基-十二烷基-6-铜肟(LIX63)中的一种或几种，模板离子与配体的摩尔比为1:1-1:10。

3.根据权利要求1所述的离子印迹化浸渍树脂制备方法，其特征在于：所述步骤(1)中的有机溶剂为甲醇、乙醇、丙酮、甲乙酮、环己烷、正己烷、正庚烷、正辛烷、异辛烷、石油醚、四氢呋喃、乙醚、1,4-二氧六环、甲苯、二甲苯、氯仿、乙腈、二甲基亚砜、2-甲氧基乙醇、环己醇、N,N-二甲基甲酰胺中的一种或几种。

4.根据权利要求1所述的离子印迹化浸渍树脂制备方法，其特征在于：所述步骤(1)中模板离子为稀土离子、Cu²⁺、Hg²⁺、Cd²⁺、Zn²⁺、Ni²⁺、Co²⁺、Pb²⁺、Fe²⁺、Fe³⁺、Cr³⁺、Ag⁺、Tl⁺、Au³⁺、Tl³⁺、Ru³⁺、Bi³⁺、Pt²⁺、Th⁴⁺、UO₂²⁺、ZrO²⁺中的一种或几种。

5.根据权利要求4所述的离子印迹化浸渍树脂制备方法，其特征在于：所述稀土离子为Sc³⁺,Y³⁺,La³⁺,Ce³⁺,Ce⁴⁺,Pr³⁺,Pr⁴⁺,Nd³⁺,Sm³⁺,Sm²⁺,Eu³⁺,Eu²⁺,Gd³⁺,Tb³⁺,Tb⁴⁺,Gy³⁺,Ho³⁺,Er³⁺,Tm³⁺,Yb³⁺,Yb²⁺,Lu³⁺中的一种或几种。

6.根据权利要求1所述的离子印迹化浸渍树脂制备方法，其特征在于：所述步骤(2)中大孔树脂基底为以苯乙烯、甲基丙烯酸、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸羟乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸丁酯、丙烯酸、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸羟乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸羟丙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸异丁酯、丙烯酸叔丁酯、丙烯酸异辛酯、4-乙烯基吡啶、丙烯腈、丙烯酰胺中的一种或几种为单体，以二乙烯基苯、二甲基丙烯酸乙二醇酯、季戊四醇三丙烯酸酯、N,N’-亚甲基双丙烯酰胺中的一种或几种为交联剂制备的大孔聚合物颗粒，配体与大孔树脂基底的质量比为1:20-2:1。

7.根据权利要求1所述的离子印迹化浸渍树脂制备方法，其特征在于：所述步骤(3)中的淋洗剂为HCl、H₂SO₄、HNO₃、乙二胺四乙酸(EDTA)、硫脲中的一种或几种。

8.根据权利要求1所述的离子印迹化浸渍树脂制备方法，其特征在于：该方法制备的离子印迹化浸渍树脂为与模板离子大小、形状、电荷匹配的结合位点分布于大孔树脂基底表面，构成与模板离子匹配的结合位点的配体以物理形式吸附在大孔树脂基底表面。