[发明专利]一种高耐久性薄型化IPS偏光片及其制备方法有效
| 申请号： | 201611085346.1 | 申请日： | 2016-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN106597595B | 公开（公告）日： | 2019-10-25 |
| 发明（设计）人： | 姜富方;钱琨;陈敏;罗子安 | 申请（专利权）人： | 深圳市盛波光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02B1/14 |
| 代理公司： | 深圳市科吉华烽知识产权事务所(普通合伙) 44248 | 代理人： | 王雨时 |
| 地址： | 518000 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 耐久性 薄型化 ips 偏光 及其 制备 方法 | ||
1.一种高耐久性薄型化IPS偏光片制备方法，其特征在于：该方法包括以下步骤：
步骤A.对第一内保护膜进行亲水处理，所述亲水处理主要系在所述第一内保护膜上涂布亲水涂层，烘干；
步骤B.将PVA膜与第二内保护膜、经步骤A处理的第一内保护膜的涂层侧通过PVA胶水粘合，得原光片；
步骤C.将构成所述原光片的第二内保护膜与第一外保护膜贴合，得偏光片半成品；
步骤D.将构成所述偏光片半成品的第一内保护膜与离型膜通过压敏胶贴合，得高耐久性薄型化IPS偏光片；
其中，步骤A中所述亲水涂层的制备方法包括以下步骤：
步骤A1.用水稀释亲水涂层本体，得亲水涂层母液；
步骤A2.向所述亲水涂层母液中加入助剂，得亲水涂层溶液，所述助剂包括占所述亲水涂层溶液质量分数0.1-0.2％的流平剂、0.4-0.6％的润湿剂、0.8％-1.2％的增稠剂；
步骤A3.对所述亲水涂层溶液进行充分搅拌后过滤。
2.根据权利要求1所述的高耐久性薄型化IPS偏光片制备方法，其特征在于：步骤A2中的助剂包括占所述亲水涂层溶液质量分数5-10％的硅烷偶联剂。
3.根据权利要求1所述的高耐久性薄型化IPS偏光片制备方法，其特征在于：步骤A2中的助剂包括占所述亲水涂层溶液质量分数5-10％的固化剂。
4.根据权利要求1所述的高耐久性薄型化IPS偏光片制备方法，其特征在于：步骤A2中的助剂包括占所述亲水涂层溶液质量分数0.1-0.2％的消泡剂。
5.根据权利要求1所述的高耐久性薄型化IPS偏光片制备方法，其特征在于：步骤A2中的助剂包括占所述亲水涂层溶液质量分数0.1-0.2％的破泡剂。
6.根据权利要求1所述的高耐久性薄型化IPS偏光片制备方法，其特征在于：所述亲水涂层本体为聚氨基甲酸酯。
7.根据权利要求1所述的高耐久性薄型化IPS偏光片制备方法，其特征在于：所述步骤A中对所述第一内保护膜进行亲水处理前，对所述第一内保护膜进行表面电晕或涂抹表面处理剂。
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