[发明专利]一种高速数码热升华转印介质在审
| 申请号： | 201611013100.3 | 申请日： | 2016-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN106696502A | 公开（公告）日： | 2017-05-24 |
| 发明（设计）人： | 戚裕 | 申请（专利权）人： | 苏州吉谷新材料有限公司 |
| 主分类号： | B41M5/41 | 分类号： | B41M5/41;B41M5/42;B41M5/44 |
| 代理公司： | 北京联瑞联丰知识产权代理事务所(普通合伙)11411 | 代理人： | 黄冠华 |
| 地址： | 215000 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 高速 数码 升华 介质 | ||
【权利要求书】：
1.一种高速数码热升华转印介质,包括基材和涂层，其特征在于：所述涂层涂布在基材表面，涂层组份按重量份数包括聚乙烯醇10-35份、聚乙二醇2-10份、氧化交联淀粉5-15份、氧化淀粉2-15份、预糊化淀粉6-15份、酯化淀粉2-15份、阴离子羧甲基淀粉2-15份、阳离子淀粉2-15份、聚阴离子纤维素5-20份、甲基纤维素2-20份、羟乙基纤维素2-20份、羟丙基甲基纤维素2-20份、微晶纤维素2-20份、聚丙烯酰胺4-20份、阴离子聚丙烯酰胺1-20份、阳离子聚丙烯酰胺1-20份、聚丙烯酸酯2-20份，二氧化硅5-20份、高岭土4-20份、碳酸钙2-20份、无机纳米氧化铝2-20份、无机纳米氧化锆2-20份、消泡剂1-2份。
2.根据权利要求1所述的高速数码热升华转印介质,其特征在于：所述基材采用基纸或基膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州吉谷新材料有限公司，未经苏州吉谷新材料有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201611013100.3/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：PVC装饰膜及其制备方法
- 下一篇：一种律师用带有透视窗的多功能资料收纳盒
