[发明专利]字型调整方法

说明书

本发明公开了一种字型调整方法，用以调整该字型以将该字型输出于输出装置的第二像素矩阵。该字型是设计于第一像素矩阵。该字型调整方法包括根据该输出装置的至少一特征值决定一常数、上限密度及下限密度；根据该字型于该第一像素矩阵的密度、该常数、该上限密度及该下限密度执行内插运算以求得变化参数；根据该变化参数调整该字型；及由该输出装置将该调整后的字型输出于该第二像素矩阵。

技术领域

本发明涉及一种字型调整方法，尤指一种调整字型的密度以将该字型输出于输出装置的字型调整方法。

背景技术

当前的字型应用已包含多种样态，例如显示、打印、投影等。字型创建后，可被运用于不同的输出装置，并被转换为各种尺寸、颜色及/或字体粗细。应用过程中，常可观察到许多效果不佳的问题。举例来说，当包括较多像素的大型字被转换为包含较少像素的小型字，或当小型字被转换为大型字时，常发生糊笔或笔划密度不均的问题，进而造成显示效果不良、或打印效果不佳，造成使用者困扰。

当前技术中，可将输出的多个字型使用校准参数予以校准，例如将笔划宽度一同缩减，以降低糊笔现象。但经此处理可能导致笔划较少的字型被不必要地校准，导致笔划过细而显示不清。

除此之外，先前技术中，当输出一篇字数繁多的文章，在未经校准处理前，有些字型结构较拥挤、有些字型结构较稀疏，导致通篇观看的视觉效果不均匀。若使用相同校准参数校准所有字型后，整体仍难以均匀。这种输出效果不佳的现象常见于携带装置等应用。因此，本领域实须解决方案以改善当前技术的缺失。

发明内容

本发明的一实施例提供一种字型调整方法，该种字型调整方法用以调整该字型以将该字型输出于输出装置的第二像素矩阵，该字型是设计于第一像素矩阵，该种字型调整方法包括根据该输出装置的至少一特征值决定第一常数、上限密度及下限密度；根据该字型于该第一像素矩阵的密度、该第一常数、该上限密度及该下限密度执行内插运算以求得变化参数；根据该变化参数调整该字型；及由该输出装置将该调整后的字型输出于该第二像素矩阵。

本发明的一实施例提供一种字型调整方法，该种字型调整方法用以调整该字型以将该字型于输出装置输出于第二像素矩阵，该字型是设计于第一像素矩阵，该种字型调整方法包括根据该输出装置的至少一特征值决定第一常数、上限密度、下限密度、上限尺寸及下限尺寸；根据该第二像素矩阵的尺寸、该第一常数、该上限尺寸、该下限尺寸执行第一内插运算以得到第二常数；根据该字型于该第一像素矩阵的密度、该第二常数、该上限密度及该下限密度执行第二内插运算以求得变化参数；根据该变化参数调整该字型；及由该输出装置将该调整后的字型输出于该第二像素矩阵。

附图说明

图1是本发明实施例中计算机系统的示意图。

图2是本发明实施例的字型调整方法的流程图。

图3是设计于256x256的像素矩阵的字型的示意图。

图4是图3的字型等比例缩放到26x26的像素矩阵且未经调整的示意图。

图5是本发明一实施例中，根据变化参数调整图4的字型，并输出于像素矩阵的示意图。

图6是本发明一实施例的第一密度、上限密度、下限密度的关系示意图。

图7是本发明另一实施例中，根据变化参数调整图4之字型，并输出于像素矩阵之示意图。

图8是本发明另一实施例之字型调整方法的流程图。

图9是本发明一实施例之目标尺寸、上限尺寸、下限尺寸之关系示意图。

图10是本发明一实施例中，考量密度与尺寸两向度以求得变化参数的坐标示意图。

图11是本发明另一实施例中，考量密度与尺寸两向度以求得变化参数的坐标示意图。