[发明专利]镀膜用磁性承载装置

说明书

一种镀膜用磁性承载装置，是用来承载至少一待镀物，其包含一个基座、一个导磁单元，及一个磁性单元。该基座具有一个参考面。该导磁单元设置于该基座的该参考面，并具有多个沿一第一方向彼此间隔的凸柱。该磁性单元设置于该参考面。在本发明中，该导磁单元的各凸柱的一顶面的一高度是大于该磁性单元的一顶面的一高度。本发明于该镀膜用磁性承载装置内引入该导磁单元，使该导磁单元与该磁性单元间距有一高度差，令该导磁单元的各凸柱顶面的高度大于该磁性单元的顶面高度，以借此消除该磁性单元所产生的磁场总量中的垂直分量的磁场，并有效地贡献出水平分量的磁场。

技术领域

本发明是涉及一种镀膜用承载装置，特别是涉及一种镀膜用磁性承载装置。

背景技术

参阅图1及图2，美国第6,290,824核准公告号发明专利案公开一种用于一连续型(in-line)磁性薄膜镀膜系统1的载盘装置18。该连续型磁性薄膜镀膜系统1沿一X方向具有多个制程腔体(process chamber)11，还具有一个传输腔体(transport chamber)12、一个载入腔体(inlet chamber)13、一个载出腔体(outlet chamber)14、多个分隔阀门15、多个X方向传输机构(transport mechanism)16，及多个Y方向传输机构17。

如图1所示，该传输腔体12是沿该X方向延伸；该载入腔体13与该载出腔体14是分别通过所述分隔阀门15中的其中两个分隔阀门15以连接于该传输腔体12的相反两端部121，且所述制程腔体11是通过剩余的分隔阀门15以连接该传输腔体12。所述X方向传输机构16是分别设置于该载入腔体13、该传输腔体12与该载出腔体14中，以承载该载盘装置18沿该X方向移动，所述Y方向传输机构17是设置于该传输腔体12，以承载该载盘装置18在一Y方向上于该传输腔体12与各制程腔体11间往复移动。

再参阅图2，当该载盘装置18位于各制程腔体11中时，是通过各制程腔体11内的一个托盘承载机构111以沿一Z方向上下移动该载盘装置18，并位在各制程腔体11内的一个靶材112的上方。参阅图3与图4，该载盘装置18具有一个托盘(pallet)181，及两个彼此间隔设置于该托盘181上的永久磁条(permanent bar magnet)182。该托盘181的一中心处设有一个阶级式穿孔180，且一个用来执行一镀膜制程的基材19是设置于该托盘18的该阶级式穿孔180中，以位于所述永久磁条182间。该载盘装置18是通过所述永久磁条182以对该基材19提供一平行于该基材19的平面方向的磁场B。

该基材19于执行该镀膜制程时，自该靶材112所溅射而出的溅射粒子(sputteringparticles)是互相碰撞并沉积于该基材19的面向该靶材112的一表面上；同时，所述永久磁条182所产生的该磁场B能令溅射粒子沿该磁场B的方向排列，使经排列的溅射粒子沉积于该基材19表面后以形成一磁性取向薄膜(magnetically oriented film，图未示)。此外，当设置有该基材19的载盘装置18经其中一Y方向传输机构17移出其制程腔体11时，沉积于该基材19表面上的磁性取向薄膜在完全冷却前，仍可通过所述永久磁条182所提供的该磁场B，以令该磁性取向薄膜的取向不是呈非序化的(disordered)。

虽然该载盘装置18对该基材19所提供的该磁场B，可令该磁性取向薄膜在未完全冷却前的取向仍处于序化的。然而，该磁场B的分布对于该磁性取向薄膜的序化取向的贡献度仍然有限。

经上述说明可知，改良镀膜用磁性承载装置的细部结构进而改善磁场分布，是此技术领域的相关技术人员所待突破的难题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种镀膜用磁性承载装置。