[发明专利]智能测试管理有效

专利信息
申请号: 201610875508.5 申请日: 2016-09-30
公开(公告)号: CN107070566B 公开(公告)日: 2021-07-23
发明(设计)人: 安东·斯特罗迈耶;迈克尔·布劳克;拉尔夫·普劳曼;托马斯·卢茨;弗朗茨·奥伯迈尔;克里斯蒂安·克劳斯;延斯·福尔克曼 申请(专利权)人: 罗德施瓦兹两合股份有限公司
主分类号: H04B17/318 分类号: H04B17/318;H04B17/345;H04B17/15
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 黄志华;何月华
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 智能 测试 管理
【说明书】:

发明涉及智能测试管理,具体地为一种智能测试装置以及优选地为一种用于使用移动通信测试设备来至少测试第一DUT和第二DUT的方法。所述方法包括确定来自/去往第一DUT的第一RF测试信号是否干扰来自/去往第二DUT的第二RF测试信号的步骤。所述方法确定来自/去往第二DUT的第二RF测试信号是否干扰来自/去往第一DUT的第一RF测试信号。该方法预先确定至少通过施加第一RF测试信号获得的第一测量结果是否以高于第一干扰阈值被干扰。该方法预先确定至少通过施加第二RF测试信号获得的第二测量结果是否以高于第二干扰阈值被干扰。

技术领域

本发明涉及智能测试系统。本发明尤其涉及一种使用移动通信测试设备来至少测试第一待测设备(DUT)和第二DUT的方法。本发明还涉及一种用于至少测试第一DUT和第二DUT的测试装置。

本发明尤其涉及在移动通信设备、诸如用户设备(例如手持设备)的生产过程中的测试环境。

背景技术

当今,生产环境包括用以评估和测试多个DUT的测试装置。DUT测试装置必须能够独立地测试各个DUT,而不受到提供给测试装置中的另一DUT的测试的影响。

必不可少的是评估DUT的运行状态以及避免在测试装置中被测试的不同DUT之间的干扰。不利的是,在两个独立的DUT之间的干扰使测试结果失真且增加了引起在测试条件下DUT行为的错误评估的测量误差。

因此,通常在这种装置中的DUT被电隔离以避免这样的干扰。在不同DUT之间的典型的电隔离值大约在60分贝或更高的范围内。这种隔离值可能是用以获得标准化的程序的客户的要求。

为了确保禁止由于在不同的DUT之间的烦扰的干扰引起的这种错误评估,在各个DUT之间的较高的隔离是适用的。较高的隔离,诸如对于各个DUT专用的屏蔽增加了各个DUT的评估成本,增多了用于测试DUT的所需时间,从而增多了生产成本。因此,应避免较高的隔离。

为了避免上述的干扰,还可以确保每个给定的时隙只有一个DUT被测试。因此,其它DUT不得不切换成闲置的,直到该激活的DUT的评估和测试程序完成。如果在短时期内应测试多个DUT,则这种方法是非常耗时的。

另一种已知的方法是根据将应被测试的频率范围使用分开的测试方案。这种分开的测试方案难于在测试程序期间维持,这是因为对于各个DUT需要多个独立的测试方案。此外,因为仅仅存在两种用以布置这些TD-SCDMA频带的可能性,因此只有有限数目的组合可同时被测试,诸如两个独立的时分同步码分多址(TD-SCDMA)频带。

因此,需要增加同时进行测试的DUT的数量且减少评估和测试进行的时间。为了实现这种同时的测试多个DUT,确保各个被测试的DUT不干扰在测试装置中的另一DUT的测量结果或使该测量结果失真是必要的。

发明内容

根据本发明的第一方面,提供了一种利用移动通信测试设备来至少测试第一DUT和第二DUT的方法。所述方法包括用于确定来自/去往第一DUT的第一射频(RF)测试信号是否干扰来自/去往第二DUT的第二RF测试信号的第一确定步骤。在随后的确定步骤中,确定来自/去往第二DUT的第二RF测试信号是否干扰来自/去往第一DUT的第一RF测试信号。在随后的步骤中,预先确定至少通过施加第一RF测试信号获得的第一测量结果是否以高于第一干扰阈值被干扰。在随后的步骤中,预先确定至少通过施加第二RF测试信号获得的第二测量结果是否以高于第二干扰阈值被干扰。

本发明的方法确保了DUT的测量结果仅仅在所施加的RF测试信号未干扰DUT的测量结果的情况下是有效的。

DUT优选地是能够通过空中接口发送和接收电信号的任何通信设备。优选地,DUT为移动通信设备(诸如UE),优选地为手持设备、智能手机或便携式计算设备(如笔记本电脑、平板电脑等)或者无线通信设备。可替选地,DUT为固定通信设备,诸如与通信系统有关的设备。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于罗德施瓦兹两合股份有限公司,未经罗德施瓦兹两合股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610875508.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top