[发明专利]正反馈柱塞流体机构

说明书

技术领域

本发明涉及热能与动力领域，尤其涉及正反馈柱塞流体机构。

背景技术

变排量柱塞流体机构主要包括斜轴式和斜盘式，这类流体机构的应用非常广泛，如果能够有效控制这类流体机构和这类流体机构的组合机构，就能够使传动系统的控制和效率得以提高。因此，需要发明一种新的柱塞流体机构。

发明内容

为了解决上述问题，本发明提出的技术方案如下：

一种正反馈柱塞流体机构，包括摆控结构体、对应结构体和柱塞，所述摆控结构体和所述对应结构体经所述柱塞对应配合设置，所述摆控结构体受控制机构控制，包括所述柱塞的气缸的流体回路内的流体设为所述控制机构的动力源。

进一步可选择地，包括所述气缸和所述柱塞的机构的排量增加时所述控制机构使包括所述气缸和所述柱塞的机构的排量进一步增加。

一种正反馈柱塞流体机构，包括摆控结构体A、对应结构体A、柱塞A、摆控结构体B、对应结构体B和柱塞B，所述摆控结构体A和所述对应结构体A经所述柱塞A对应配合设置，所述摆控结构体A受控制机构A控制，包括所述柱塞A的气缸的流体回路内的流体设为所述控制机构A的动力源,所述摆控结构体B和所述对应结构体B经所述柱塞B对应配合设置，所述摆控结构体B受控制机构B控制，包括所述柱塞B的气缸的流体回路内的流体设为所述控制机构B的动力源。

进一步可选择地，包括所述柱塞A的气缸的单元设为泵，包括所述柱塞B的气缸的单元设为马达，所述柱塞A的气缸和所述柱塞B的气缸连通；所述柱塞A的气缸的排量增加时，所述控制机构A使所述柱塞A的气缸的排量进一步增加，所述控制机构B使所述柱塞B的气缸的排量减小，所述柱塞A的气缸的排量减小时，所述控制机构A使所述柱塞A的气缸的排量进一步减小，所述控制机构B使所述柱塞B的气缸的排量增加，

进一步可选择地，所述控制机构A和所述控制机构B一体化设置。

一种正反馈柱塞流体机构，包括气缸体、旋转轴和柱塞，所述柱塞铰接设置在所述旋转轴上，所述柱塞与所述气缸体上的气缸配合设置，在所述气缸体与配流体配合设置，所述配流体与轨道体配合设置，所述气缸体受控制机构控制或所述配流体受控制机构控制，包括所述气缸体的气缸的流体回路内的流体设为所述控制机构的动力源。

进一步可选择地，包括所述气缸和所述柱塞的机构的排量增加时所述控制机构使包括所述气缸和所述柱塞的机构的排量进一步增加。

一种正反馈柱塞流体机构，包括气缸体A、旋转轴A、柱塞A、气缸体B、旋转轴B和柱塞B，所述柱塞A铰接设置在所述旋转轴A上，所述柱塞A与所述气缸体A上的气缸配合设置，所述气缸体A与配流体A配合设置，所述配流体A与轨道体配合设置，所述气缸体A受控制机构A控制或所述配流体A受所述控制机构A控制，包括所述气缸体A的气缸的流体回路内的流体设为所述控制机构A的动力源,所述柱塞B铰接设置在所述旋转轴B上，所述柱塞B与所述气缸体B上的气缸配合设置，所述气缸体B与配流体B配合设置，所述配流体B与所述轨道体配合设置，所述气缸体B受控制机构B控制或所述配流体B受所述控制机构B控制，包括所述气缸体B的气缸的流体回路内的流体设为所述控制机构B的动力源。

进一步可选择地，包括所述气缸体A的气缸的单元设为泵，包括所述气缸体B的气缸的单元设为马达，所述气缸体A的气缸和所述气缸体B的气缸连通；所述气缸体A的气缸的排量增加时，所述控制机构A使所述气缸体A的气缸的排量进一步增加，所述控制机构B使所述气缸体B的气缸的排量减小，所述气缸体A的气缸的排量减小时，所述控制机构A使所述气缸体A的气缸的排量进一步减小，所述控制机构B使所述气缸体B的气缸的排量增加。

进一步可选择地，所述控制机构A和所述控制机构B一体化设置。

进一步可选择地，在所述控制机构的流体入口处设流体控制装置或设流体节流结构。

进一步可选择地，在所述控制机构A的流体入口处设流体控制装置或设流体节流结构和/或在所述控制机构B的流体入口处设流体控制装置或设流体节流结构。

进一步可选择地，一体化设置的所述控制机构A和所述控制机构B定义为组合控制机构，在所述组合控制机构的流体入口处设流体控制装置或设流体节流结构。

在上述所有结构中，进一步可选择地在包括所述柱塞A的柱塞缸和/或所述柱塞B柱塞缸的流体回路上设置热交换器。

在上述所有结构中，进一步可选择地所述正反馈柱塞流体机构的工质设为液体、气体、气液两相混合物、临界态流体、超临界态流体或设为超超临界态流体。