[发明专利]用于读取阵列中的闪存单元的带位线预充电电路的改进读出放大器有效
申请号: | 201610815185.0 | 申请日: | 2016-09-09 |
公开(公告)号: | CN107808683B | 公开(公告)日: | 2021-02-19 |
发明(设计)人: | 盛斌;S.周;T.王;R.钱;L.郭;D.白 | 申请(专利权)人: | 硅存储技术公司 |
主分类号: | G11C16/26 | 分类号: | G11C16/26 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 吕传奇;杜荔南 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 读取 阵列 中的 闪存 单元 带位线预 充电 电路 改进 读出 放大器 | ||
本发明涉及用于读取阵列中的闪存单元的值的改进读出放大器。在一个实施例中,读出放大器包括改进的预充电电路,以用于在预充电周期期间对位线进行预充电,从而提高读操作的速度。在另一个实施例中,读出放大器包括简化的地址解码电路,以提高读操作的速度。
技术领域
本发明涉及用于读取阵列中的闪存单元的值的改进读出放大器。在一个实施例中,读出放大器包括改进的预充电电路,以用于在预充电周期期间对位线进行预充电,从而提高读操作的速度。在另一个实施例中,读出放大器包括简化的地址解码电路,以提高读操作的速度。
背景技术
非易失性存储器单元在本领域中是熟知的。图1中示出了一种现有技术的非易失性分裂栅存储器单元10,该非易失性分裂栅存储器单元包括五个端子。存储器单元10包括第一导电类型(诸如P型)的半导体衬底12。衬底12具有表面,在所述表面上形成第二导电类型(诸如N型)的第一区14(也称为源极线SL)。同样属于N型的第二区16(也称为漏极线)形成在衬底12的该表面上。第一区14和第二区16之间是沟道区18。位线BL 20连接至第二区16。字线WL 22被定位在沟道区18的第一部分上方并与其绝缘。字线22几乎不与或完全不与第二区16重叠。浮栅FG 24在沟道区18的另一部分上方。浮栅24与该另一部分绝缘,并与字线22相邻。浮栅24还与第一区14相邻。浮栅24可与第一区14重叠以提供从第一区14到浮栅24中的耦合。耦合栅CG(也称为控制栅)26位于浮栅24上方并与其绝缘。擦除栅EG 28在第一区14上方并与浮栅24和耦合栅26相邻,且与该浮栅和该耦合栅绝缘。浮栅24的顶部拐角可指向T形擦除栅28的内侧拐角以增强擦除效率。擦除栅28也与第一区14绝缘。存储器单元10在美国专利No.7,868,375中进行了更具体的描述,该专利的公开内容全文以引用方式并入本文中。
现有技术的非易失性存储器单元10的擦除和编程的一个示例性操作如下。通过福勒-诺德海姆隧穿机制(Fowler-Nordheim tunneling mechanism),借助在擦除栅28上施加高电压而使其他端子等于零伏特来擦除存储器单元10。电子从浮栅24隧穿到擦除栅28中,导致浮栅24带正电,从而打开处于读取状态的单元10。所得的单元擦除状态被称为‘1’状态。
通过源极侧热电子编程机制,借助在耦合栅26上施加高电压、在源极线14上施加高电压、在擦除栅28上施加中等电压以及在位线20上施加编程电流,来对存储器单元10编程。流经字线22与浮栅24之间的间隙的一部分电子获得足够的能量而注入浮栅24之中,导致浮栅24带负电,从而关闭处于读取状态的单元10。所得的单元编程状态被称为‘0’状态。
按如下方式以电流感测模式读取存储器单元10:在位线20上施加偏置电压,在字线22上施加偏置电压,在耦合栅26上施加偏置电压,在擦除栅28上施加偏置电压或零电压,并且在源极线14上施加接地电位。对于擦除状态而言,存在从位线20流向源极线14的单元电流,而对于编程状态而言,存在从位线20流向源极线14的不显著单元电流或零单元电流。或者,可以反向电流感测模式读取存储器单元10,在该模式中,位线20接地,并且在源极线24上施加偏置电压。在该模式中,电流反转方向,从源极线14流向位线20。
或者,可按如下方式以电压感测模式读取存储器单元10:在位线20上施加偏置电流(接地),在字线22上施加偏置电压,在耦合栅26上施加偏置电压,在擦除栅28上施加偏置电压,并且在源极线14上施加偏置电压。对于擦除状态而言,位线20上存在单元输出电压(显著地0V),而对于编程状态而言,位线20上存在不显著或接近零的输出电压。或者,可以反向电压感测模式读取存储器单元10,在该模式中,位线20被偏置在偏置电压处,并且在源极线14上施加偏置电流(接地)。在该模式中,存储器单元10输出电压位于源极线14上而非位于位线20上。
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