[发明专利]一种高性能形状记忆合金及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种高性能形状记忆合金，其特征在于，该合金由钛、镍、铜、铌元素构成，所述的高性能形状记忆合金，按原子百分比包括如下组分：钛原子百分比含量为45-50%、镍的原子百分比含量为30-34%、铜的原子百分比含量为10-14%、铌的原子百分比含量为2~12%，所述的高性能形状记忆合金为薄膜状的合金，所述薄膜状的合金厚度为2-50微米，所述的高性能形状记忆合金的显微结构中包含Ti₂Cu与Ti₂Ni相，所述的高性能形状记忆合金中的Ti₂Cu与Ti₂Ni相的尺寸小于500纳米；

所述的高性能形状记忆合金的制备方法，包括以下步骤：

1）按照上述的合金材料制备靶材；

2）采用磁控溅射制备薄膜状的形状记忆合金，抽真空至10^-3Pa以上，充入氩气，然后再抽真空至10^-3Pa，调整工作电压为500V，溅射占空比60-70%，开始进行溅射沉积，控制厚度为2-50微米得到薄膜状的形状记忆合金；

3）对步骤2）得到的薄膜状的形状记忆合金进行退火热处理得到高性能形状记忆合金。

2.权利要求1所述的高性能形状记忆合金的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

1）按照上述的合金材料制备靶材；

2）采用磁控溅射制备薄膜状的形状记忆合金，抽真空至10^-3Pa以上，充入氩气，然后再抽真空至10^-3Pa，调整工作电压为500V，溅射占空比60-70%，开始进行溅射沉积，控制厚度为2-50微米得到薄膜状的形状记忆合金；

3）对步骤2）得到的薄膜状的形状记忆合金进行退火热处理得到高性能形状记忆合金。

3.根据权利要求2所述的高性能形状记忆合金的制备方法，其特征在于，所述退火热处理温度为650-720摄氏度。

4.权利要求1所述的高性能形状记忆合金在工业控制、医疗器械方面的应用。