[发明专利]一种钼铝钼蚀刻液

说明书

技术领域

本发明涉及化学蚀刻技术，特别涉及一种钼铝钼蚀刻液。

背景技术

现有技术中，钼铝钼蚀刻液主要由硝酸、磷酸和醋酸组成，并且磷酸在蚀刻液中所占比例较高。钼铝钼蚀刻液已广泛应用于薄膜场效应晶体管液晶显示器(TFT-LCD)、发光二极管(LED)和有机发光二极管(OLED)等行业，具体用于制作面板过程中钼层和铝层的蚀刻中。传统技术配方在蚀刻强度、蚀刻角度及金属腐蚀性等方面表现出较好蚀刻性能。然而，现有的蚀刻液粘度较高，流动性差，易引发局部刻蚀不均匀等问题。同时，蚀刻液成本也较高。

专利号为201110420806.2的中国发明专利公开了一种新型酸性钼铝钼蚀刻液，并具体公开了所述钼铝钼蚀刻液包括磷酸、醋酸、硝酸、阳离子表面活性剂、金属硝酸盐和纯水，所述钼铝钼蚀刻液的原料重量百分比分别为：磷酸60％～75％、醋酸5％～15％、硝酸1％～10％、金属硝酸盐0.1％～2％、阳离子表面活性剂0.001％～0.5％、其余为纯水。上述专利公开的钼铝钼蚀刻液存在蚀刻液整体粘度大、流动性低、易引发局部刻蚀不均匀以及成本较高的问题。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是：提供一种粘度低、腐蚀性低、蚀刻效果好、低成本的钼铝钼蚀刻液。

为了解决上述技术问题，本发明采用的技术方案为：

一种钼铝钼蚀刻液，以钼铝钼蚀刻液的总重量为基准，包括：磷酸35-45％、硝酸1-3％、冰醋酸8-12％、添加剂0.5-1.0％和去离子水39-55.5％；所述添加剂包括有机多元膦酸类物质、胺类物质和盐类物质。

本发明的有益效果在于：

(1)本发明的钼铝钼蚀刻液中，通过上述含量范围内的各组分的相互配合，可保证钼铝钼蚀刻液的蚀刻效果，并且其整体粘度低，可由16.32mpa·s降低至3.87mpa·s(20℃)，可减小因粘度过高而造成的局部蚀刻不均匀的可能性；

(2)同时，在特定含量的磷酸、硝酸、冰醋酸存在的前提下，加入上述含量的添加剂可有效保证蚀刻效果，且从一定程度上降低成本，同时能确保其具有优良的蚀刻角度、蚀刻量以及蚀刻后无残留和金属腐蚀性低等性能，实现能够实现高效、精准的蚀刻；

(3)可大大降低产品成本，并且，本发明的钼铝钼蚀刻液对金属层无腐蚀。

附图说明

图1为本发明的钼铝钼蚀刻液的SEM效果图；

图2为图1的SEM效果图的局部放大图；

图3为现有技术的钼铝钼蚀刻液的SEM效果图；

图4为图3的SEM效果图的局部放大图；

图5为本发明的钼铝钼蚀刻液与现有技术的钼铝钼蚀刻液刚溶解Al粉后的实验效果对比图；

图6为本发明的钼铝钼蚀刻液与现有技术的钼铝钼蚀刻液充分溶解Al粉后的实验效果对比图；

图7为本发明的未添加所述添加剂的钼铝钼蚀刻液与现有技术的钼铝钼蚀刻液溶解Al粉后的实验效果对比图。

具体实施方式

为详细说明本发明的技术内容、所实现目的及效果，以下结合实施方式并配合附图予以说明。

本发明最关键的构思在于:降低磷酸含量，引入了包括有机多元膦酸类物质和盐类物质的添加剂，从而减少因磷酸带来的蚀刻不均匀问题并保持蚀刻性能。

请参照图1以及图2，一种钼铝钼蚀刻液，以钼铝钼蚀刻液的总重量为基准，包括：磷酸35-45％、硝酸1-3％、冰醋酸8-12％、添加剂0.5-1.0％和去离子水39-55.5％；所述添加剂包括有机多元膦酸类物质、胺类物质和盐类物质。

上述组分配比的钼铝钼蚀刻液，硝酸提供H₃O⁺，作为主蚀刻药液，起到氧化作用；磷酸提供磷酸根，与氧化的金属形成络合物从而溶解金属氧化物；冰醋酸可附着于反应物表面，降低蚀刻液黏度以提高其浸润性和调整蚀刻速率；添加剂一方面可在水中可电离出氢离子，电离后形成配位氧原子，可以和Al³⁺形成稳定的螯合物，另一方面可以有效的调节蚀刻速率，弥补因磷酸含量降低造成的影响。

本发明通过上述原料及配比的设计，能满足客户要求蚀刻角度和蚀刻量，提高产品优良率，确保优良的蚀刻性能；同时大幅度降低磷酸含量，降低因磷酸浓度过大而使蚀刻液整体粘度变大，流动性降低，从而导致产生局部刻蚀不均的问题。

从上述描述可知，本发明的有益效果在于：