[发明专利]永磁马达在审

专利信息
申请号: 201610525476.6 申请日: 2016-07-06
公开(公告)号: CN107591917A 公开(公告)日: 2018-01-16
发明(设计)人: 郭振南;郑立巍;谢明宏 申请(专利权)人: 大银微系统股份有限公司
主分类号: H02K1/27 分类号: H02K1/27
代理公司: 北京北新智诚知识产权代理有限公司11100 代理人: 赵郁军,程凤儒
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 永磁 马达
【说明书】:

技术领域

发明与永磁马达有关,特别是关于一种降低顿转的永磁马达。

背景技术

马达的顿转不仅影响性能,亦将产生振动与噪音,造成马达应用上的限制与不便,因此,已知技术莫不致力于降低马达顿转转矩(Cogging Torque)的研究与开发,并通过诸如磁铁形状、尺寸、极距、磁化方式、磁铁展开角度、靴部深度、槽极数组合以及辅助槽等诸多技术手段,期以降低顿转的现有技术被揭露。

其具体地,在图1所示的现有技术中,通过改变转子1成对磁铁2的展开角度达到降低顿转的功效外的内藏型构造,并使其成对磁铁2呈V形地埋设于转子1中,更有进者则如图2所示,进一步地于各极的磁岛3上设置孔4构造,通过孔4限制磁力线的行进区域,令磁力线更为集中,而可与定子绕组间进行更有效率的交链,达到降低顿转转矩的功效。

上述现有技术虽揭露了通过孔洞构造来改变转子铁芯的磁通分布,但对于孔洞的形状、数量、尺寸及位置等详细的技术内容对于降低顿转转矩的功效,欠缺最佳化的技术内容,其不足有需再加以改进。

发明内容

因此,本发明的主要目的在于提供一种永磁马达,其使设于马达转子磁岛中的孔,在形状、孔径以及空间形态的配置上获得最佳化,据以达到降低顿转转矩、反电动势总谐波失真与转矩涟波,进而提升控制的精度并减少振动及噪音。

为达成上述目的,本发明采用以下技术方案:

一种永磁马达,包含有:

一定子,呈环状;

一转子,呈圆形而同轴地位于该定子中;

一气隙,介于该转子的外周环面与该定子的内周环面间;

多数磁铁,设于该转子中,并以该转子的曲率中心为原点,形成多数等角度的极区;以及

多数孔,分别设于各极区介于该转子周侧与对应磁铁间的磁岛中;

各个磁岛中分别设有三个孔,三个孔分别为一个中间孔与位于该中间孔两侧的两个侧孔,且使该中间孔与各侧孔分别满足下列的条件,达到最佳的顿转降低功效:

10°≤θ≤(360°/P)-27°;

0.5g≤r≤3g;

0.5g≤R≤3g;

S(2/3)≤d≤S-(r+1);以及

S(2/3)≤D≤S-(r+1)。

其中:

θ为两侧孔间以转子的曲率中心为原点的展开角。

P为马达转子的极数。

r为侧孔的半径。

R为中间孔的半径。

g为马达转子与定子间的气隙隙宽。

S为转子的半径。

d为侧孔的曲率中心与转子的曲率中心间的深度距离。

D为中间孔的曲率中心与转子的曲率中心间的深度距离。

其中,各孔为圆形孔。

其中,马达的极数为多数成对的磁铁分设于该转子中所构成。

其中,各成对的磁铁呈V形地分别内藏于该转子中。

并可更进一步地使该些孔设置于各极的磁岛中的数量增加至四个,使所增加的一底孔位于成对磁铁V形收敛端内。

于本发明的一实施例中,当P的数量为8时,各侧孔的孔径小于中间孔的孔径,并特定各孔与马达转子的曲率中心间以及各孔彼此间的相对位置;其中又以θ为12°、r为0.9公厘、R为1.3公厘、d为S(2/3)以及D为S(2/3)时,可以获得相对最佳的顿转转矩降低功效。

而于本发明的另一实施例中,当P的数量为6时,各侧孔的孔径大于中间孔的孔径;其中又以θ为12°、r为1.2公厘、R为0.5公厘、以及d与D皆为39公厘时,可以获得相对最佳的顿转转矩降低功效。

附图说明

图1是一现有的永磁马达的平面示意图。

图2是另一现有的永磁马达的平面示意图。

图3是本发明永磁马达实例的平面图。

图4是本发明永磁马达实施例中单一极区的平面图。

图5是本发明永磁马达实施例的展开角与顿转转矩变化关系图。

图6是本发明永磁马达实施例的孔半径与顿转转矩变化关系图,其中,该中间孔与各侧孔的半径相同。

图7是本发明永磁马达实施例的中间孔半径与顿转转矩变化关系图。

图8是本发明永磁马达实施例的深度距离与顿转转矩变化关系图。

图9是本发明永磁马达实施例的孔数量与顿转转矩变化关系图。

图10是本发明永磁马达实施例与图1所示永磁马达的顿转转矩比较图。

图11是本发明永磁马达实施例与图1所示永磁马达的反电动势谐波比较图。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大银微系统股份有限公司,未经大银微系统股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610525476.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top