[发明专利]干挂平板石材凹槽造型阴角收口方法在审
申请号: | 201610467108.0 | 申请日: | 2016-06-24 |
公开(公告)号: | CN107542236A | 公开(公告)日: | 2018-01-05 |
发明(设计)人: | 何伏娟 | 申请(专利权)人: | 五冶集团上海有限公司 |
主分类号: | E04F13/073 | 分类号: | E04F13/073;E04F13/076 |
代理公司: | 上海天协和诚知识产权代理事务所31216 | 代理人: | 张恒康 |
地址: | 201900 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 平板 石材 凹槽 造型 收口 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种石材凹槽造型阴角收口方法,具体地说,是一种干挂平板石材凹槽造型阴角收口方法。
背景技术
设计师在设计大面积干挂平板石材的情况下通常会采用5*10mm、10*20mm的凹槽造型作为分隔缝。但往往会忽略阴角收口处凹槽的地方出现的黑洞。图1为本发明实施例的第1石材和第2石材连接导致凹槽衔接处形成镂空的黑洞示意图,其中第1石材和第2石材各宽25mm,设有横向10*20mm凹槽造型。凹槽高度大的时候甚至会暴露基层,此时施工人员会采用打胶收口的方法进行修补,这样既增添工作量又影响美观与品质,减弱了施工单位细节处的品质保证。
因此已知的干挂平板石材凹槽造型阴角收口方式存在着上述种种不便和问题。
发明内容
本发明的目的,在于提出一种石材边缘上设置竖向刨边槽的干挂平板石材凹槽造型阴角收口方法。
为实现上述目的,本发明的技术解决方案是:
一种干挂平板石材凹槽造型阴角收口方法,包括第1石材和第2石材,其中第1石材和第2石材厚度各为25mm,设有横向10*20mm凹槽造型,凹槽造型阴角收口方法其特征在于包括以下步骤:
a、在石材加工工厂加工制作第1石材和第2石材时,使第1石材单边比原规格加宽25mm;
b、在第1石材单边比原规格加宽25mm处竖向刨槽,竖向刨槽的深度同横向凹槽深度,且宽度同第2石材厚度;
c、将第2石材叠压在第1石材的竖向刨槽上,完成干挂平板石材凹槽造型阴角收口。
本发明的干挂平板石材凹槽造型阴角收口方法还可以采用以下的技术措施来进一步实现。
前述的方法,其中所述干挂平板石材凹槽造型阴角收口采用涂胶粘剂收口。
采用上述技术方案后,本发明的干挂平板石材凹槽造型阴角收口方法具有以下优点:
1、石材竖向刨槽设计合理、制作简单;
2、使一边石材叠压住另一边石材取得完美收口,外型美观,赏心悦目;
3、提高了施工质量,达到完美收口理想效果;
4、广泛适用性于石材装饰面有凹凸不平的造型线条。
附图说明
图1为本发明实施例的第1石材和第2石材连接导致凹槽衔接处形成镂空的黑洞示意图,其中第1石材和第2石材各宽25mm,设有横向10*20mm凹槽造型;
图2为本发明实施例的第1石材和第2石材连接在凹槽衔接处竖向刨槽示意图,其中第1石材竖向刨槽的深度同横向凹槽深度,且宽度同第2石材厚度;
图3为本发明实施例的第1石材和第2石材连接在凹槽衔接竖向刨槽处阴角收口示意图,其中第1石材和第2石材叠压收住衔接缺口。
图中:1第1石材,2第2石材,P镂空的黑洞,Q竖向刨槽,R叠压收住衔接缺口。
具体实施方式
以下结合实施例及其附图对本发明作更进一步说明。
实施例1
本发明的干挂平板石材凹槽造型阴角收口方法,包括第1石材1和第2石材2,其中第1石材和第2石材厚度各为25mm,设有横向10*20mm凹槽造型,凹槽造型阴角收口方法其特征在于包括以下步骤:
a、在石材加工工厂加工制作第1石材和第2石材时,使第1石材1单边比原规格加宽25mm;
图2为本发明实施例的第1石材和第2石材连接在凹槽衔接处竖向刨槽示意图,其中第1石材竖向刨槽的深度同横向凹槽深度,且宽度同第2石材厚度。
b、在第1石材1单边比原规格加宽25mm处竖向刨槽Q,竖向刨槽的深度同横向凹槽深度,且宽度同第2石材厚度;
图3为本发明实施例的第1石材和第2石材连接在凹槽衔接竖向刨槽处阴角收口示意图,其中第1石材和第2石材叠压收住衔接缺口。
c、将第2石材叠压在第1石材1的竖向刨槽上,完成干挂平板石材凹槽造型阴角收口R。所述干挂平板石材凹槽造型阴角收口采用涂胶粘剂收口。
本发明具有实质性特点和显著的技术进步,本发明的干挂平板石材凹槽造型阴角收口方法,采用竖向刨边槽达到第1石材和第2石材完美收口,提高了施工质量,还具有广泛适用性,适用性于石材装饰面有凹凸不平的造型线条。
本发明的干挂平板石材凹槽造型阴角收口方法在贵安新区星河湾酒店二期工程中运用,效果显著,提高了施工质量,达到了理想的效果。
以上实施例仅供说明本发明之用,而非对本发明的限制,有关技术领域的技术人员,在不脱离本发明的精神和范围的情况下,还可以作出各种变换或变化。因此,所有等同的技术方案也应该属于本发明的范畴,应由各权利要求限定。
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