[发明专利]环式撞击型气化炉

权利要求书

1.一种环式撞击型气化炉，包括内设气化室(2)的炉体，所述炉体的上部设有气化原料喷嘴(1)，该气化原料喷嘴(1)朝向所述气化室(2)喷出竖直向下延伸的环状气化原料流体，所述炉体上还设有多个与所述气化原料喷嘴(1)非同轴布置的多个气化剂喷嘴(222)，多个所述气化剂喷嘴(222)喷出的气化剂流体朝向气化原料流体倾斜向下呈倒锥流体面喷出，多个所述气化剂喷嘴(222)喷出的气化剂流体与所述环状气化原料流体在所述气化室(2)内相互撞击而发生燃烧和气化反应，其中，所述气化原料喷嘴(1)内形成有供气化原料通过的单流体通道(11)，所述单流体通道(11)内设有分料器(12)，使得气化原料流体经过所述分料器(12)后从所述单流体通道(11)的出口端呈环状流体喷出。

2.根据权利要求1所述的环式撞击型气化炉，其中，所述分料器(12)包括顶端的圆锥端和底端的圆柱端，所述圆锥端的顶点朝上，所述圆柱端的圆柱面与所述单流体通道(11)的内周壁之间形成有环形间隔空间(111)，向下流动的所述气化原料流体经由所述圆锥端的圆锥面后分流至所述环形间隔空间(111)以形成环状流体喷出。

3.根据权利要求2所述的环式撞击型气化炉，其中，所述分料器(12)包括沿径向依次间隔套设的多个套管，所述气化原料流体经由相邻两个所述套管之间的环形间隔空间(111)呈环状流体喷出。

4.根据权利要求1所述的环式撞击型气化炉，其中，所述分料器(12)为设置在所述单流体通道(11)的横截面上的多孔分料板，该多孔分料板的外周缘部依次间隔布置有多个贯通孔。

5.根据权利要求1所述的环式撞击型气化炉，其中，所述气化原料喷嘴(1)包括喷嘴座体，所述炉体的顶盖部设有安装孔，所述喷嘴座体嵌入安装于所述安装孔中；

其中，所述单流体通道(11)形成于所述喷嘴座体内，且所述喷嘴座体内嵌设有盘绕所述单流体通道(11)的内周壁设置的冷却液盘管(13)。

6.根据权利要求1～5中任意一项所述的环式撞击型气化炉，其中，围绕所述气化室(2)的炉体周壁包括从外至内的保温层(23)、气化剂环层(22)和水冷壁(21)，所述气化剂喷嘴(222)将所述气化剂环层(22)中的气化剂呈流体状喷向所述气化室(2)。

7.根据权利要求6所述的环式撞击型气化炉，其中，所述气化剂喷嘴(222)从所述炉体的顶盖部的水冷壁(21)向内且倾斜向下伸出。

8.根据权利要求7所述的环式撞击型气化炉，其中，所述气化原料喷嘴(1)安装在所述炉体的顶盖部的中心且所述气化原料流体竖直向下喷出，所述气化剂喷嘴(222)喷出的气化剂流体朝向所述气化原料流体倾斜向下喷出，所述气化原料流体与所述气化剂流体之间的碰撞夹角0°<α<180°。

9.根据权利要求8所述的环式撞击型气化炉，其中，所述气化剂喷嘴(222)喷出的气化剂流体的流速大于所述气化原料喷嘴(1)喷出的所述环状气化原料流体的流速。

10.根据权利要求6所述的环式撞击型气化炉，其中，所述气化剂喷嘴(222)连接的气化剂输送管布置在所述气化剂环层(22)内，所述气化剂输送管包括输送母管(24)和多个输送支管(221)，所述输送母管(24)环绕布置在所述气化剂环层(22)的底部，且所述输送母管(24)沿周向间隔设置有多个气化剂入口(241)，每个所述气化剂喷嘴(222)分别通过相应的所述输送支管(221)连接至所述输送母管(24)。