[发明专利]一种聚乙烯醇光学薄膜的热处理方法有效
申请号: | 201610291260.8 | 申请日: | 2016-04-29 |
公开(公告)号: | CN105738977B | 公开(公告)日: | 2017-08-08 |
发明(设计)人: | 吴福胜;许宏平;唐成宏;徐冬生;陈争艳;潘晓明;向学毅;施红生;闫昌斌;朱宝华 | 申请(专利权)人: | 安徽皖维高新材料股份有限公司 |
主分类号: | G02B1/12 | 分类号: | G02B1/12;G02B5/30 |
代理公司: | 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司34101 | 代理人: | 何梅生,卢敏 |
地址: | 238002 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 聚乙烯醇 光学薄膜 热处理 方法 | ||
1.一种聚乙烯醇光学薄膜的热处理方法,其特征在于:是通过先热风处理、再硅油浴处理的方式对聚乙烯醇光学薄膜进行热处理,具体包括如下步骤:
首先,以聚乙烯醇树脂为原料,经流延法获得预成型聚乙烯醇光学薄膜;通过干燥导辊对预成型聚乙烯醇光学薄膜进行干燥处理,获得挥发分含量在12%~16%的聚乙烯醇光学薄膜;
然后,将聚乙烯醇光学薄膜在热处理烘箱中进行热风处理,获得挥发分含量在6%~8%的预处理膜;再将所述预处理膜引入硅油浴槽中进行硅油浴处理,取出后经真空压榨装置去除残留硅油,即完成聚乙烯醇光学薄膜的热处理。
2.根据权利要求1所述的热处理方法,其特征在于:所述热风处理的温度为40℃~100℃,时间1min~5min;所述硅油浴处理的温度为50℃~150℃,时间为1min~5min。
3.根据权利要求2所述的热处理方法,其特征在于:所述热风处理的温度为70℃~80℃,所述硅油浴处理的温度为100℃~130℃。
4.根据权利要求1所述的热处理方法,其特征在于:所述热风处理的气体介质为空气、氮气、二氧化碳、氦气或氩气;所述硅油浴处理的热源为硅油类产品。
5.根据权利要求4所述的热处理方法,其特征在于:所述硅油类产品为二甲基硅油、乙基硅油、苯基硅油、甲基含氢硅油、甲基苯基硅油、甲基氯苯基硅油或甲基乙氧基硅油或甲基羟基硅油。
6.根据权利要求4所述的热处理方法,其特征在于:所述硅油类产品的黏度范围为3mpa.s~10mpa.s。
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