[发明专利]发光均匀度校正设备及其校正方法

说明书

技术领域

本发明关于一种校正设备及校正方法，更特别的是关于用于对曝光机的发光均匀度进行校正的发光均匀度校正设备及其校正方法。

背景技术

目前产业界制造电路板时普遍需利用到曝光机，而具有由多个光源组成的发光模块的多光源曝光机也越来越受到重视，一般来说，该发光模块的光源系由多个发光二极管所组成，但这些发光二极管由于其自身特性的不同(例如制程差异、使用时数不同等)而会造成各该发光二极管的发光强度不同，使该发光模块发光不均匀，其会直接使得感光电路板吸收的光能不均，进而造成当下曝光的感光电路板报废，因此确保多光源曝光机的发光模块的发光均匀度被视为一个重要的议题。

然而，目前现有的多光源曝光机，并未具有一个自动化设备来自动检测以确保曝光机的发光模块的发光均匀度，而是让作业人员透过一手持式检测设备来对该发光模块上的各个光源进行手动量测，使用上并不方便；更或者是直接利用该曝光机对一个质地均匀的感光电路板进行曝光作业后，分析该电路板各个位置的曝光程度来验证发光模块的发光均匀度，此种检测方式非常耗时且成本过高。

因此，如何研发出一种发光均匀度校正设备及其校正方法，以确保曝光机的发光模块的发光均匀度进而提升电路板的制造良率，将是本发明所欲积极公开之处。

发明内容

本发明的一目的在于提供一种能自动更正曝光机的发光模块的发光均匀度的校正设备。

本发明的另一目的在于提供一种校正曝光机的发光模块的发光均匀度的校正方法。

为达上述目的及其他目的，本发明提出一种发光均匀度校正设备，适用于对曝光机的一发光模块进行发光均匀度校正，且该发光模块系具有多个发光单元以产生一面光源，该发光均匀度校正设备系包含一感测模块、一移动模块、一处理模块及一调整模块。该感测模块系与该发光模块的发光面相对设置，并于对应该发光面的多个取样位置上对该发光面进行光强度感测，且根据于各该取样位置所感测的光线的强度而分别产生对应的一光强度讯号；该移动模块系根据一取样位置信息讯号，使该感测模块与该发光模块之间产生相对位移以于各该取样位置间进行移动；该处理模块系与该感测模块及该移动模块相耦接，并输出该取样位置信息讯号且接收该感测模块于各该取样位置所产生的光强度讯号，并于该发光面的发光均匀度不符合一均匀度标准时产生对应的一校正讯号；及该调整模块系与该处理模块及该发光模块相耦接，系根据该校正讯号对应地调整这些发光单元中的至少一者的发光强度。

于本发明的一实施例中，该调整模块系根据该校正讯号分别调整对这些发光单元中的至少一者的供电量，以分别改变被调整的各该发光单元的发光强度。

于本发明的一实施例中，该处理模块取得该面光源上具有异常光强度的区块的一异常坐标位置信息及一异常光强度信息，并将该异常坐标位置信息及该异常光强度信息搭载于该校正讯号来输出。

于本发明的一实施例中，该调整模块系根据该异常坐标位置信息来定位出发光异常的发光单元，并根据该异常光强度信息来调整被定位的发光单元的发光强度。

于本发明的一实施例中，该感测模块系为光电转换器。

于本发明的一实施例中，该光电转换器系具有光电二极管。

为达上述目的及其他目的，本发明还提出一种发光均匀度校正方法，系使用上述的发光均匀度校正设备来对曝光机的发光模块进行发光均匀度校正，该发光均匀度校正方法系包含分辨率设定步骤、光强度感测步骤、均匀度分析步骤及均匀度校正步骤。该分辨率设定步骤系设定该曝光机的发光模块的多个取样位置的数量及坐标；该光强度感测步骤系分别于这些取样位置上对该曝光机的发光模块的发光面进行光强度感测；该均匀度分析步骤系根据各该取样位置的光强度进行分析并判断各该取样位置的光强度是否符合该均匀度标准，若不符合系进入该均匀度校正步骤，若符合则结束该校正方法；及该均匀度校正步骤系根据光强度异常的取样位置取得对应该取样位置的发光单元，并对该发光单元的发光强度进行调整。

于本发明的一实施例中，该均匀度校正步骤后更包含均匀度确保步骤，系再次分别于这些取样位置上对该发光面进行光强度感测，并判断各该取样位置的光强度是否符合该均匀度标准，若不符合系进入该均匀度校正步骤，若符合则结束该校正方法。

由此，本发明的发光均匀度校正设备及其校正方法，系以自动化设备来对该曝光机的发光模块进行发光均匀度校正，可迅速地且方便地针对于该发光模块的发光强度有异常的区域各别进行调整，以确保该发光模块的发光均匀度，进而提升电路板的制造良率。

附图说明