[发明专利]键盘结构在审

专利信息
申请号: 201610255266.X 申请日: 2016-04-22
公开(公告)号: CN105788928A 公开(公告)日: 2016-07-20
发明(设计)人: 张立德;廖瑞铭;颜志仲 申请(专利权)人: 苏州达方电子有限公司;达方电子股份有限公司
主分类号: H01H13/705 分类号: H01H13/705
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215011 江*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 键盘 结构
【权利要求书】:

1.一种键盘结构,其特征在于,该键盘结构包括:

键帽,该键帽具有键帽滑动部,该键帽滑动部凸出设置有键帽干涉块,该 键帽干涉块将该键帽滑动部的内部空间,分为第一空间与第二空间;

底板,该底板具有底板滑动部,该底板滑动部凸出设置有底板干涉块,该 底板干涉块将该底板滑动部的内部空间,分为第三空间与第四空间;

第一支架,该第一支架具有第一支架滑动部,该第一支架滑动部与该键帽 滑动部搭配,使该第一支架相对该键帽滑动;以及

第二支架,该第二支架具有第二支架滑动部,该第二支架滑动部与该底板 滑动部搭配,使该第二支架相对该底板滑动;

当该键帽受到按压时,该键帽迫使该第一支架与该第二支架由未按压位置 移动至按压位置,使得该第一支架滑动部相对该键帽滑动部滑动,而自该第一 空间移动进入该第二空间,且使得该第二支架滑动部相对该底板滑动部滑动, 而自该第三空间移动进入该第四空间,其中,该键帽干涉块干涉该第一支架滑 动部相对该键帽滑动部的滑动,而该底板干涉块干涉该第二支架滑动部相对该 底板滑动部的滑动,藉以在该键帽的按压过程中提供阻力而造成按压手感。

2.如权利要求1所述的键盘结构,其特征在于,该键盘结构还包括弹性体, 该弹性体受力后的弹性变形量与受力大小值成正比,该弹性体对该键帽提供顶 撑力,使该第一支架滑动部接触该键帽滑动部滑槽下方的槽壁面,以及使该第 二支架滑动部接触该底板滑动部滑槽上方的槽壁面,并在该键帽受到的按压力 释放时,使该第一支架及该第二支架移动返回该未按压位置,使得该第一支架 滑动部自该第二空间移动返回该第一空间,以及使得该第二支架滑动部自该第 四空间移动返回该第三空间。

3.如权利要求1所述的键盘结构,其特征在于,该底板干涉块具有底板干 涉块引导面,能够引导该第二支架滑动部沿着第二预定路径相对该底板滑动部 滑动,而使该第一支架与该第二支架在该未按压位置与该按压位置间移动。

4.一种键盘结构,其特征在于,该键盘结构包括:

键帽,该键帽具有键帽滑动部,该键帽滑动部凸出设置有键帽干涉块,该 键帽干涉块将该键帽滑动部的内部空间,分为第一空间与第二空间;以及

第一支架,该第一支架具有第一支架滑动部,该第一支架滑动部与该键帽 滑动部搭配,使该第一支架相对该键帽滑动;

当该键帽受到按压时,该键帽迫使该第一支架由未按压位置移动至按压位 置,使得该第一支架相对该键帽滑动部滑动,而自该第一空间移动进入该第二 空间,其中,该键帽干涉块干涉该第一支架滑动部相对该键帽滑动部的滑动, 藉以在该键帽的按压过程中提供阻力而造成按压手感。

5.如权利要求4所述的键盘结构,其特征在于,该键盘结构还包括弹性体, 该弹性体受力后的弹性变形量与受力大小值成正比,该弹性体对该键帽提供顶 撑力,使该第一支架滑动部接触该键帽滑动部滑槽下方的槽壁面,并在该键帽 受到的按压力释放时,使该第一支架移动返回该未按压位置,使得该第一支架 滑动部自该第二空间移动返回该第一空间。

6.一种键盘结构,其特征在于,该键盘结构包括:

键帽;

底板,该底板具有底板滑动部,该底板滑动部凸出设置有底板干涉块,该 底板干涉块将该底板滑动部的内部空间,分为第三空间与第四空间;以及

第二支架,该第二支架具有第二支架滑动部,该第二支架滑动部与该底板 滑动部搭配,使该第二支架相对该底板滑动;

当该键帽受到按压时,该键帽迫使该第二支架由未按压位置移动至按压位 置,使得该第二支架相对该底板滑动,而自该第三空间移动进入该第四空间, 其中,该底板干涉块干涉该第二支架滑动部相对该底板滑动部的滑动,藉以在 该键帽的按压过程中提供阻力而造成按压手感。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州达方电子有限公司;达方电子股份有限公司,未经苏州达方电子有限公司;达方电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610255266.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top