[发明专利]一种旋转阴极磁棒装置

说明书

技术领域

本发明属于真空镀膜技术领域，特别是一种大面积平板玻璃镀膜生产系统中的旋转阴极磁棒装置。

背景技术

已知磁控溅射镀膜是指利用磁场与电场交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。所产生的离子在电场的作用下撞向靶材表面从而溅射出靶材，沉积在玻璃基片上形成薄膜。

已知现有的平面阴极有利用率较低，往往只能达到20％-30％。为了提高靶材的利用率，旋转靶材逐步被市场使用起来。但旋转靶材镀膜的均匀性并不好，内部的磁棒起到了决定性的作用。

已知镀膜玻璃的均匀性对玻璃的品质起到至关重要的作用。而在生产过程中均匀性的调节一直是困饶生产的一大难题。

发明内容

在本发明中解决的任务是提供一种满足提供磁控溅射所需要的高强稳定的磁场且磁场强度可简易调节，符合生产需求的旋转阴极磁棒装置。

为解决上述问题，本发明是按以下方式实现的：一种旋转阴极磁棒装置，包括主轴、支撑脚、调节垫片、磁铁背板、高强磁铁五个部分；所述高强磁铁与所述磁铁背板用胶粘接，所述高强磁铁均匀分布在所述磁铁背板上；所述磁铁背板通过所述支撑脚与所述主轴通过螺栓连接，且连接处设置若干调节垫片调节磁场强度，所述磁铁背板边部安装导向轮支撑磁棒在旋转阴极内部保持中间位置同时也方便磁棒装入旋转阴极时对旋转阴极接口密封面的保护。

本发明的积极效果是：在镀膜玻璃生产过程中，旋转阴极的选用是市场的发展趋势，这种阴极对于溅射能更高的提高溅射效率，这种旋转阴极磁棒装置为旋转阴极磁控溅射提供了磁场需求，且可调节磁场强度的装置更符合目前的生产工艺需求，不但提高了生产效率更提高了产品的质量。

附图说明

图1为本发明所述一种旋转阴极磁棒装置的主视图。

图2为本发明所述一种旋转阴极磁棒装置的原理图。

具体实施方式

下面结合附图对本发明的工作原理作进一步详细的说明。

如图1所示的一种旋转阴极磁棒装置，包括主轴1、支撑脚2、调节垫片3、磁铁背板4、高强磁铁5五个部分。高强磁铁5与磁铁背板4用胶粘接，高强磁铁5均匀分布在磁铁背板4上。磁铁背板4通过支撑脚2与主轴1通过螺栓连接，且连接处可适当加放调节垫片3调节磁场强度，磁铁背板4边部安装导向轮支撑磁棒在旋转阴极内部保持中间位置同时也方便磁棒装入旋转阴极时对旋转阴极接口密封面的保护。可安放调整垫片机构是整个装置核心部分，通过增加或减少垫片的数量决定磁场靠近或远离旋转阴极靶材表面从而控制该部位磁控溅射的磁场强度。

如图2所示，本发明的工作原理：在生产过程中，由于高强磁铁的磁强存在差异，镀膜腔体环境差异，供气不均匀等情况出现时必然对镀膜玻璃膜沉积的均匀性产生差异，这种情况下我们就可以同过这种旋转阴极磁棒装置来调节靶表面的磁场强度。当产品左侧沉积速率慢于右侧沉积速率产生了左右颜色差异时，我们就可以把磁棒拿出调节左侧调整垫片适当增加，右侧调整垫片适当减少，然后再恢复生产调试测量左右镀膜厚度，直至最优。

本装置应用于大面积平板玻璃镀膜设备旋转阴极中，实现可调节旋转阴极可调节磁场强度，得到更好镀膜玻璃均匀性。