[发明专利]一种投影曝光装置及方法

权利要求书

1.一种投影曝光装置，依次包括：

一照明光源；

一照明光学系统；

掩膜台，用于承载掩膜版；

投影物镜组，由多个子物镜拼接，形成拼接曝光视场；

工件台，用于承载一基板，在扫描曝光过程中，所述照明光源发射的光束，经过所述照明光学系统，照射到所述掩膜版上，并将设置在所述单元掩膜版的图案，经过所述投影物镜组形成的所述拼接曝光视场，转印到对应的所述基板上；

所述基板根据所述拼接曝光视场划分为多个曝光区域；

以及与掩膜台、工件台皆信号连接的控制系统，所述投影曝光装置还包括与所述控制系统皆电路连接的对准测量系统和焦面测量系统，所述对准测量系统包括若干个对准测量装置，所述焦面测量系统包括若干个焦面测量装置，所述对准测量系统和所述焦面测量系统设置在所述掩膜台和所述工件台之间，

其特征在于，每个所述对准测量装置皆具有调焦功能，在对任意一个所述曝光区域扫描曝光过程前或扫描曝光过程中，每个所述焦面测量装置根据实时测量的所在的所述曝光区域中所述基板的焦面信息，使每个所述对准测量装置实时调焦对准；当完成一个所述曝光区域的扫描曝光后，对下一个所述曝光区域进行扫描曝光，则每个所述对准测量装置重新根据每个所述焦面测量装置测得的实时数据进行实时调焦对准。

2.如权利要求1所述的投影曝光装置，其特征在于，每个所述对准测量装置上皆具有调焦装置。

3.如权利要求2所述的投影曝光装置，其特征在于，所述对准测量系统包括若干个排列成直线的对准测量装置，每个所述对准测量装置依次包括对准测量装置光源、第一照明组件、第二照明组件、分光棱镜、第一成像组件、第二成像组件以及面阵相机，所述第一成像组件上包括调焦装置，由所述对准测量装置光源发出的照明光依次经过所述第一照明组件、第二照明组件到达所述分光棱镜，并由所述分光棱镜将光分给所述第一成像组件与所述第二成像组件，光经过所述第一成像组件到达所述工件台上的物体并反射给所述第一成像组件，并依次经过所述分光棱镜、所述第二成像组件到达所述面阵相机。

4.如权利要求3所述的投影曝光装置，其特征在于，所述对准测量系统光源为卤素灯或者LED，所述对准测量系统光源具有避开光刻胶感光的光波段。

5.如权利要求1所述的投影曝光装置，其特征在于，所述焦面测量系统包括若干个排列成直线的焦面测量装置。

6.如权利要求1所述的投影曝光装置，其特征在于，所述焦面测量系统根据测量参考零平面为基准测量所述基板面型的变化，所述测量参考零平面由所述焦面测量系统根据所述工件台上的参考物设定。

7.如权利要求6所述的投影曝光装置，其特征在于，所述工件台上的所述参考物位于所述工件台上表面的基准版上，所述基准版位于所述基板的一侧，所述基准版为长条形。

8.如权利要求7所述的投影曝光装置，其特征在于，所述参考物为所述基准版上的参考标记。

9.如权利要求1所述的投影曝光装置，其特征在于，所述投影物镜组包括若干个投影物镜，若干所述投影物镜组设有一公共焦面。

10.如权利要求1所述的投影曝光装置，其特征在于，所述基板表面具有若干个对准标记，所述对准标记排列成直线。

11.如权利要求10所述的投影曝光装置，其特征在于，任意一个所述对准标记只对应一个所述焦面测量装置和一个所述对准测量装置。

12.如权利要求10所述的投影曝光装置，其特征在于，任意排或者任意列内所述对准标记之间的间距与该排或者该列对应的所述对准测量装置之间的间距相等。

13.如权利要求1所述的投影曝光装置，其特征在于，所述基板材料为玻璃或者硅基材料。