[发明专利]一种用于表面增强拉曼散射的基底系统及其制备方法

权利要求书

1.一种用于表面增强拉曼散射的基底系统，其特征在于，

所述基底系统包括驻极体(1)和活性物质(2)，其中，

在所述驻极体(1)上设置有活性区域(11)，所述活性物质(2)位于所述驻极体(1)的所述活性区域(11)上，

其中，所述活性物质(2)用于负载被检测的样品并且在所述驻极体(1)发生形变时，能够检测吸附在所述活性物质(2)表面的单分子层。

2.根据权利要求1所述的基底系统，其特征在于，

在所述活性区域(11)上开设有凹槽，所述活性物质(2)填充于凹槽内，所述凹槽为规则排布，所述凹槽采用光刻制成。

3.根据权利要求1或2所述的基底系统，其特征在于，

所述活性区域(11)用于负载活性物质(2)；和/或

所述活性物质(2)为纳米贵金属，其中，所述纳米贵金属包括纳米金、纳米银或纳米铜。

4.根据权利要求1所述的基底系统，其特征在于，

所述驻极体(1)为高分子材料，所述高分子材料包括聚烯烃、聚酯、聚酰胺、或含氟聚合物，其中，所述含氟聚合物包括聚四氟乙烯、或聚全氟乙丙烯。

5.根据权利要求1所述的基底系统，其特征在于，

所述驻极体(1)呈筒形，所述筒形的两端为椭圆形；

在所述驻极体(1)上设置有调节杆(12)、固定螺母(13)和调节螺母(14)，所述固定螺母(13)和调节螺母(14)分别设置在调节杆(12)的两端，用于与调节杆(12)配合。

6.根据权利要求5所述的基底系统，其特征在于，

所述调节杆(12)设置在活性区域(11)的两侧、且穿插过筒形的驻极体(1)，用于控制驻极体(1)的形变；和/或

所述调节杆(12)为多个。

7.一种制备权利要求1至6之一所述的基底系统的方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

步骤1、在驻极体(1)的活性区域(11)上进行光刻，得到凹槽，该凹槽是规则的，并对凹槽进行等离子体表面处理；

步骤2、在凹槽内填充活性物质(2)；

步骤3、对活性物质(2)的表面进行表面处理，所述表面处理包括等离子体表面处理；

步骤4、对驻极体(1)进行注极。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，

在步骤2中，所述活性物质为纳米贵金属，所述纳米贵金属包括纳米金、纳米银或纳米铜；和/或

步骤2包括以下子步骤：

步骤2-1、将活性物质分散在水中，配成水性浆料；

步骤2-2、采用旋涂或提拉进行镀膜以将步骤2-1制成的水性浆料填充于凹槽内；

步骤2-3、20～40℃下进行干燥。

9.根据权利要求7或8所述的方法，其特征在于，在步骤3之后，重复操作步骤2和步骤3两至五次。

10.根据权利要求1至6之一所述的基底系统或者根据权利要求7至9之一所述方法制得的基底系统的用途，用于表面增强拉曼散射。