[发明专利]用于使直线性加速器和磁共振成像设备彼此屏蔽的方法和装置有效
申请号: | 201610115787.5 | 申请日: | 2010-07-15 |
公开(公告)号: | CN105664378B | 公开(公告)日: | 2019-06-28 |
发明(设计)人: | S·施瓦兹曼;G·登米斯特;J·F·登普希;J·L·帕特里克二世 | 申请(专利权)人: | 优瑞技术公司 |
主分类号: | A61N5/10 | 分类号: | A61N5/10;A61B5/055;G01R33/28;G01R33/421;G01R33/48;G01R33/42 |
代理公司: | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人: | 康艳青;姚开丽 |
地址: | 美国俄*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 线性 加速器 磁共振 成像 设备 彼此 屏蔽 方法 装置 | ||
1.一种放射治疗系统,所述放射治疗系统包括:
磁共振成像(MRI)系统,所述磁共振成像系统包括相隔MRI磁隙的第一主MRI磁体和第二主MRI磁体,
其中所述第一主MRI磁体和所述第二主MRI磁体一起工作以生成磁场,所述磁场的至少一部分沿着第一纵轴延伸,所述第一纵轴延伸通过所述第一主MRI磁体和所述第二主MRI磁体的等中心;
机架,所述机架定位在所述MRI磁隙中,所述机架是围绕所述第一纵轴可旋转的;
直线粒子加速器,所述直线粒子加速器在离所述第一主MRI磁体和所述第二主MRI磁体的等中心一第一固定径向距离处受到所述机架支承,所述直线粒子加速器沿着第二纵轴排列,并且被构造来随所述机架旋转并且将辐射束导向所述第一主MRI磁体和所述第二主MRI磁体的等中心;以及
磁屏蔽罩,所述磁屏蔽罩在离所述第一主MRI磁体和所述第二主MRI磁体的等中心一第二固定径向距离处受到所述机架支承,
其中所述磁屏蔽罩至少包括第一磁屏蔽壳体和定位于所述第一磁屏蔽壳体内部的第二磁屏蔽壳体,所述第一磁屏蔽壳体至少部分包围所述直线粒子加速器和所述第二磁屏蔽壳体。
2.如权利要求1所述的放射治疗系统,其中当所述直线粒子加速器围绕所述第一纵轴旋转时,所述第二纵轴延伸通过所述等中心。
3.如权利要求1所述的放射治疗系统,其中当所述直线粒子加速器围绕所述第一纵轴旋转时,所述第二纵轴保持与所述第一纵轴正交。
4.如权利要求1所述的放射治疗系统,其中所述第一磁屏蔽壳体由包括钢的材料形成。
5.如权利要求1所述的放射治疗系统,其中所述第二磁屏蔽壳体与所述第一磁屏蔽壳体同轴。
6.如权利要求1所述的放射治疗系统,其中所述第二磁屏蔽壳体沿着第三纵轴延伸,其中所述第二纵轴和所述第三纵轴共面。
7.如权利要求6所述的放射治疗系统,还包括至少部分被第二磁屏蔽罩包围的第二直线粒子加速器。
8.如权利要求1所述的放射治疗系统,其中所述第二磁屏蔽壳体由包括钢的材料形成。
9.如权利要求1所述的放射治疗系统,其中所述第一磁屏蔽壳体和所述第二磁屏蔽壳体由各自的不同的钢形成。
10.如权利要求1所述的放射治疗系统,其中由所述第一主MRI磁体和所述第二主MRI磁体生成的磁场在离所述等中心一特定位置处转向反方向,并且其中所述磁屏蔽罩从所述特定位置延伸。
11.如权利要求1所述的放射治疗系统,其中所述磁屏蔽罩还包括线圈。
12.如权利要求11所述的放射治疗系统,其中所述第一磁屏蔽壳体提供无源磁屏蔽,而所述线圈提供有源磁屏蔽。
13.如权利要求1所述的放射治疗系统,其中所述机架是可与所述磁共振成像系统无关地围绕所述第一纵轴旋转的。
14.如权利要求1所述的放射治疗系统,其中所述第一磁屏蔽壳体为圆柱形。
15.如权利要求1所述的放射治疗系统,还包括附加磁屏蔽罩,所述附加磁屏蔽罩沿附加纵轴延伸,其中所述磁屏蔽罩和所述附加磁屏蔽罩分隔相同角度。
16.如权利要求1所述的放射治疗系统,其中所述直线粒子加速器生成RF辐射,并且所述放射治疗系统还包括RF屏蔽罩,所述RF屏蔽罩被配置成为所述磁共振成像系统屏蔽所述RF辐射的至少一部分。
17.如权利要求16所述的放射治疗系统,其中所述RF屏蔽罩包括RF吸收材料。
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