[发明专利]一种Cu2O纳米薄膜的制备方法有效
| 申请号: | 201610106968.1 | 申请日: | 2016-02-28 |
| 公开(公告)号: | CN105753034B | 公开(公告)日: | 2017-10-13 |
| 发明(设计)人: | 江瑶瑶;钟福新;王晶晶;高云鹏;莫德清 | 申请(专利权)人: | 桂林理工大学 |
| 主分类号: | C01G3/02 | 分类号: | C01G3/02 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 541004 广*** | 国省代码: | 广西;45 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 cu sub 纳米 薄膜 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种Cu2O纳米薄膜的制备方法。
背景技术
Cu2O是铜的一价氧化物,颜色鲜红,常呈粉末状固体,在酸性的条件下容易发生歧化反应生成铜单质和二价的铜离子。氧化亚铜禁带的宽度在1.9eV-2.2eV,在太阳光的照射下,氧化亚铜能产生光生载流子,由于禁带宽度只有2.0eV左右,易被可见光激发,是一种良好的无机氧化物半导体材料。在理论上,氧化亚铜的光电转化效率可以达到20%。随着太阳能电池的发展,Cu2O纳米材料和Cu2O复合材料更加引起人们关注。此外Cu2O还可用于制备船底防污漆、着色剂、储磁器、电极材料。氧化亚铜常用的制备方法主要有热氧化法、水热合成法、溶胶凝胶法、电化学沉积法等。但热氧化法制备纳米氧化亚铜,反应需在高温下进行,高温反应设备昂贵且反应所需温度不容易达到;在溶胶-凝胶法制备过程中,溶胶容易团聚,工艺参数不容易控制;水热法虽然方法简单,但是需要恒温设备,反应温度较高,不易大规模应用;电化学沉积法制备氧化亚铜,工作电极在电解过程中存在“边缘效应”,造成电极中间薄边缘厚,难以均匀沉积在基底上。本发明采用的制备工艺简单,具有工艺参数容易控制,反应条件温和,制备周期短,并测得其光电性能良好。且该方法尚未见报道。
发明内容
本发明的目的是提供一种常温水浴制备氧化亚铜纳米薄膜的方法。
具体步骤为:
(1)配制质量百分比浓度为0.3~1%的HF溶液和质量百分比浓度为25~65%的HNO3溶液,两种配好的溶液取相同体积混合均匀,得混酸溶液。
(2)将铜片剪成1.5cm×5cm×0.1cm大小,置于步骤(1)所得混酸溶液中,20~50秒后待铜表面呈紫红色取出,依次用二次蒸馏水、分析纯丙酮、分析纯酒精各超声清洗铜片10分钟,随即在25~65℃水浴中静置3~7天,得Cu2O纳米薄膜,测试其光电压达到0.0801~0.1286V。
本发明与其他相关技术相比,最显著的特点是常温水浴法制备Cu2O纳米薄膜,其制备工艺简单、周期短,制备的样品可以直接成功地用于光电压测试,光电压值较高,降低了相关成本及处理时间。
具体实施方式
实施例1:
(1)配制质量百分比浓度为0.5%的HF溶液和质量百分比浓度为65%的HNO3溶液,两种配好的溶液取相同体积混合均匀,得混酸溶液。
(2)将铜片剪成1.5cm×5cm×0.1cm大小,置于步骤(1)所得混酸溶液中,20秒后待铜表面呈紫红色取出,依次用二次蒸馏水、分析纯丙酮和分析纯酒精各超声清洗铜片10分钟,随即在25℃水浴中静置4天,得Cu2O纳米薄膜,测试其光电压为0.1286V。
实施例2:
(1)配制质量百分比浓度为1%的HF溶液和质量百分比浓度为25%的HNO3溶液,两种配好的溶液取相同体积混合均匀,得混酸溶液。
(2)将铜片剪成1.5cm×5cm×0.1cm大小,置于步骤(1)所得混酸溶液中,50秒后待铜表面呈紫红色取出,依次用二次蒸馏水、分析纯丙酮和分析纯酒精各超声清洗铜片10分钟,随即在45℃水浴中静置4天,得Cu2O纳米薄膜,测试其光电压为0.0801V。
实施例3:
(1)配制质量百分比浓度为0.3%的HF溶液和质量百分比浓度为55%的HNO3溶液,两种配好的溶液取相同体积混合均匀,得混酸溶液。
(2)将铜片剪成1.5cm×5cm×0.1cm大小,置于步骤(1)所得混酸溶液中,30秒后待铜表面呈紫红色取出,依次用二次蒸馏水、分析纯丙酮和分析纯酒精各超声清洗铜片10分钟,随即在35℃水浴中静置4天,得Cu2O纳米薄膜,测试其光电压为0.1178V。
实施例4:
(1)配制质量百分比浓度为0.7%的HF溶液和质量百分比浓度为45%的HNO3溶液,两种配好的溶液取相同体积混合均匀,得混酸溶液。
(2)将铜片剪成1.5cm×5cm×0.1cm大小,置于步骤(1)所得混酸溶液中,30秒后待铜表面呈紫红色取出,依次用二次蒸馏水、分析纯丙酮和分析纯酒精各超声清洗铜片10分钟,随即在65℃水浴中静置4天,得Cu2O纳米薄膜,测试其光电压为0.0938V。
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