[发明专利]公转与自转均可独立调速的真空镀膜机工件转架运动机构

说明书

本发明公开了一种公转与自转均可独立调速的真空镀膜机工件转架运动机构，本发明设置两个驱动机构，并通过设计工件转架三重运动机构之间的联动关系，使本发明工件转架运动机构具有多种不同的运动模式，从而使本发明的工件转架运动机构除完成现有工件转架的三重运动外，还可通过对两个驱动机构的控制，使采用本发明的工件转架运动机构的工件转架的公转与自转均可独立调速。

技术领域

本发明涉及真空镀膜技术领域，具体涉及一种真空镀膜机工件转架运动机构。

背景技术

真空镀膜机内都置有用于装夹被镀工件的工件转架运动机构。以立式真空离子镀膜机为例，常用的工件转架运动机构的运动方式通常可分为两重运动或三重运动，自转盘随公转盘公转的同时并进行自转，部分镀膜机除前述基础运动外，还具有第三重运动，即工件自身自转或间歇式自转。现有技术中的镀膜机的工件转架运动机构，无论是采用两重运动方式或是采用三重运动方式，它们都是一种联合运动，运动模式单一。这些工件转架运动机构一般通过变频电机驱动公转盘公转，通过转动的公转部件驱动自转盘自转，再由自转部件驱动工件自转。现有技术中的这种运动机构，虽可以在一定范围内调速，但自转速度都是随同公转速度变化，不能单独调整。

近年来工件的种类增多，工件形状越加杂复，镀层种类也多样化了，所以对镀膜工艺提出了新的要求，特别是近期出现许多彩色干涉膜，这种类型的镀层对膜层厚度很敏感，所以镀膜工艺上希望工件转架运动机构的公转盘、自转盘的转速能独立调节。现有技术中的工件转架运动机构满足不了上述工艺要求，所以需要一种能提供多种运行模式的工件转架运动机构。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种能提供多种运行模式的真空镀膜机工件转架运动机构，采用本发明的工件转架运动机构，公转与自转均可独立调速。

本发明的上述技术问题通过如下技术方案解决：一种公转与自转均可独立调速的真空镀膜机工件转架运动机构，包括公转盘，自转盘，大自转轴和小自转轴；

所述大自转轴围绕所述公转盘的旋转中心转动安装在所述公转盘上，所述自转盘平行于所述公转盘固定在所述大自转轴上部，所述小自转轴围绕所述自转盘的旋转中心转动安装在所述自转盘上；

其特征在于，所述工件转架运动机构还包括齿轮盘，所述公转盘与所述齿轮盘同轴设置，所述公转盘转动安装在所述齿轮盘上；

所述大自转轴的下端穿出所述公转盘固定有大扭力传递齿轮，所述齿轮盘与所述大扭力传递齿轮啮合，以便在所述齿轮盘转动时，驱动所述大自转轴带动所述自转盘自转；

所述公转盘的顶面围绕其旋转中心凸出固定有若干个固定小齿轮，所述大自转轴下端从所述固定小齿轮中部穿过，所述小自转轴下端穿出所述自转盘固定有小扭力传递齿轮，安装在同一自转盘上的小自转轴上的所有所述小扭力传递齿轮啮合于同一所述固定小齿轮；

所述工件转架运动机构还包括第一齿轮驱动机构和第二齿轮驱动机构，所述第一齿轮驱动机构与所述齿轮盘相连，用于驱动所述齿轮盘旋转，所述第二齿轮驱动机构与所述公转盘相连，用于驱动所述公转盘旋转。

上述结构的工件转架运动机构可进行三种模式的运动：

运行模式一：第一齿轮驱动机构启动，此时，公转盘不动，大自转轴原地自转，自转盘上小自转轴自转；此时，自转盘转速可调，自转盘上的小自转轴自转速度受自转盘转速控制；

运行模式二：第二齿轮驱动机构启动，此时，公转盘公转，大自转轴公转并自转，小自转轴公转、随大自转轴转动、再自转；此时，公转盘转速可调，自转盘和自转盘上的小自转轴转速受公转盘控制，不能独立调节；

运行模式三：第一齿轮驱动机构、第二齿轮驱动机构都启动，此时，公转盘转速可调，自转盘随公转盘公转、自转，且其自转速度可独立调节，自转盘上的小自转轴自转速度受自转盘转速控制，且在公转盘、齿轮盘同步转动时，公转盘公转，大自转轴、小自转轴只随公转盘公转而均不自转。