[发明专利]一种瓷与玻璃绝缘子抗低温涂层

权利要求书

1.一种瓷与玻璃绝缘子抗低温涂层，包括设置在绝缘子外表面的Si0₂膜层和设置在所述Si0₂膜层上的含氟有机物膜层构成，其特征在于：所述含氟有机物膜层外设置C-Si0₂石墨膜层，所述Si0₂膜层由Si0₂膜层制备液制成，所述Si0₂膜层制备液由Si0₂溶胶和Si0₂粉体组成，Si0₂溶胶中Si0₂的摩尔数与Si0₂粉体中Si0₂的摩尔数之比为(3～3.15)：1；所述含氟有机物膜层由含氟有机物膜层制备液制成，所述含氟有机物膜层制备液为单分子有机氟硅烷溶液或含氟聚合物溶液；所述C-Si0₂石墨膜层为石墨与Si0₂混合涂层。

2.如权利要求1所述的瓷与玻璃绝缘子抗低温涂层，其特征在于：所述含氟有机物膜层由含氟有机物膜层制备液制成，所述含氟有机物膜层制备液为单分子有机氟硅烷溶液或含氟聚合物溶液，所述单分子有机氟硅烷溶液的体积百分比浓度为2～3.5％，溶剂为异丙醇、丁醇和乙醇中的任一种，溶质为十二氟庚基丙基三甲氧基硅烷或十三氟辛基三甲氧基硅烷；所述含氟聚合物溶液的体积百分比浓度为0.25～5％，溶剂为N甲基吡咯烷酮或N，N二甲基乙酰胺，溶质为聚全氟癸基丙烯酸酯或聚四氟乙烯。

3.如权利要求1所述的瓷与玻璃绝缘子抗低温涂层，其特征在于：所述C-Si0₂石墨膜层为石墨与Si0₂混合涂层，所述石墨颗粒尺度为5～15nm，Si0₂的颗粒尺度为3～6nm，石墨与Si0₂的质量比为1：(5～5.5)。

4.一种如权利要求1所述的瓷与玻璃绝缘子抗低温涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

a.在绝缘子本体的外表面上涂覆Si0₂膜层，首先对绝缘子本体进行表面预处理，表面预处理步骤依次为：水洗、醇洗、480℃高温焙烧；在经过表面预处理的绝缘子本体的外表面涂覆Si0₂膜层制备液，之后室温下干燥，然后放入马弗炉中于450℃焙烧6小时，在绝缘子本体的外表面上涂覆得到Si0₂膜层；

b.在外表面涂覆有Si0₂膜层的绝缘子本体的Si0₂，膜层上涂覆含氟有机物膜层制备液，之后经自然干燥；

c.将自然干燥后的绝缘子表面涂敷石墨与Si0₂混合物，放入冷等静压机以250～300Mpa压力下4小时，表面混合物自然脱落后，然后放入真空烘箱内于400℃热处理4小时，制得防冰闪绝缘子。