[发明专利]井装置和流控制装置、在井下井眼中自主导引流的方法有效
申请号: | 201610089838.1 | 申请日: | 2011-01-26 |
公开(公告)号: | CN105604529B | 公开(公告)日: | 2019-04-23 |
发明(设计)人: | 贾森·D·戴克斯特拉;M·L·夫瑞普;O·德杰瑟斯;约翰·C·加诺;卢克·霍尔德曼 | 申请(专利权)人: | 哈利伯顿能源服务公司 |
主分类号: | E21B43/12 | 分类号: | E21B43/12;E21B33/03 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 黄艳 |
地址: | 美国得*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 装置 控制 井下 眼中 主导 引流 方法 | ||
1.一种装置,包括:
流系统,该流系统具有第一通道、第二通道和第三通道以及分别与所述第一通道、所述第二通道和所述第三通道流体连通的第一入口、第二入口和第三入口,并且所述第一入口、所述第二入口和所述第三入口彼此连接,且使流体流通过所述第一入口、所述第二入口和所述第三入口融合,其中所述第一通道对所述流体流的第一阻力不同于所述第二通道对所述流体流的第二阻力。
2.根据权利要求1所述的装置,还包括位于至少其中一个通道中的涡流二极管。
3.根据权利要求1所述的装置,还包括位于其中一个通道中的第一限流器,该第一限流器与位于另一个通道中的第二限流器属于不同的类型,以及其中所述第一限流器和所述第二限流器选自如下的组群,即,涡流二极管、弯曲的流动路径、表面纹理、接触特定流体而膨胀的材料和孔口。
4.根据权利要求1所述的装置,其中,一个通道包括沿其长度一致的直径,且该通道长于另一个通道,以在黏性增加时提供对流体流的比另一个通道更大的阻力。
5.根据权利要求1所述的装置,其中所述第二通道中的流体流响应所述流体在粘度上的增加的阻力增加小于所述第一通道中的流体流的阻力增加。
6.根据权利要求5所述的装置,其中响应于黏性的改变,其中一个通道提供对流体流基本恒定的阻力。
7.根据权利要求5所述的装置,其中响应于增加的黏性,其中一个通道提供的阻力大于另一个通道提供的阻力。
8.根据权利要求1所述的装置,其中所述流系统是井下工具。
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