[发明专利]一种纳米压印复合模板的制备方法

权利要求书

1.一种软模板材料的制备方法，所述软模板材料由巯基低聚倍半硅氧烷(POSS-SH)嫁接低表面能的氟化交联剂而合成，所述软模板材料的合成由下述式I所示：

2.一种纳米压印复合模板的制备方法，包括以下步骤：

1)母板的制备：首先在硅片上涂布一光刻胶层，然后在光刻胶层上刻印出图案，再使用等离子体刻蚀把所述光刻胶层上的图案转移到硅片上，去胶清洗后，得到带有图案的母板；优选地，图案为直径500纳米，圆柱成密堆积分布，周期大小为900纳米；更优选地，蚀刻深度为700纳米；

2)溶液的准备：将固化剂分别与权利要求1制备的软模板材料、PDMS混合，得到软模板材料溶液和PDMS溶液；

3)纳米压印复合模板的制备：将所述软模板材料溶液涂布在所述带有图案的母板上，得到涂布有软模板材料溶液的母板；然后将所述涂布有软模板材料溶液的母板置于限制模具中，再倒入所述PDMS溶液，得到平铺有PDMS溶液的母板；再加热烘烤所述平铺有PDMS溶液的母板，取下限制模具，并将母板去除，得到纳米压印复合模板，即得。

3.根据权利要求2所述的纳米压印复合模板的制备方法，其特征子在于，在步骤1)中，得到带有图案的母板后，还包括将所述带有图案的母板的表面旋涂一层抗粘剂，再加热烘烤的步骤。

4.根据权利要求3所述的纳米压印复合模板的制备方法，其特征子在于，所述抗粘剂为CF₃(CF₂)₅(CH₂)₂SiCl₃。

5.根据权利要求3或4所述的纳米压印复合模板的制备方法，其特 征子在于，于75～85℃的热板上加热烘烤45～75S；优选地，于80℃的热板上加热烘烤60S。

6.根据权利要求2至4中任一项所述的纳米压印复合模板的制备方法，其特征子在于，在步骤2)中，将软模板材料和固化剂以10∶2～4的体积比混合；优选地，将软模板材料和固化剂以10∶3.1的体积比混合。

7.根据权利要求2至4中任一项所述的纳米压印复合模板的制备方法，其特征在于，在步骤3)中，于75～85℃的热板上加热烘烤所述平铺有软模板材料溶液的母板0.5～1.5h；优选地，于80℃的热板上加热烘烤所述平铺有紫外固化剂溶液的母板1h。

8.根据权利要求2至4中任一项所述的纳米压印复合模板的制备方法，其特征在于，在步骤3)中，将所述PDMS溶液倒入所述限制模具中，静置5分钟，使所述PDMS溶液平铺在所述紫外固化剂溶液的母板上，所述限制模具的结构与所述母板相适配。

9.根据权利要求2至4中任一项所述的纳米压印复合模板的制备方法，其特征在于，在步骤3)中，得到涂布有软模板材料溶液的母板后，还包括在所述涂布有软模板材料溶液的母板上涂布一层CF₃(CF₂)₅(CH₂)₂SiCl₃溶液，然后再加热烘烤的步骤。

10.根据权利要求9所述的纳米压印复合模板的制备方法，其特征在于，于95～105℃的热板上加热烘烤60～120S；优选地，100℃的热板上加热烘烤90S。