[发明专利]石英玻璃酸刻蚀用掩膜及石英玻璃摆片的酸刻蚀方法

权利要求书

1.一种石英玻璃酸刻蚀用掩膜，其特征在于，其包括：以氟碳胶为基质，通过添加其质量分数5-15％的固化剂、1-20％的稀释剂调整胶膜性质；其中，所述的氟碳胶为氟原子取代聚乙烯或聚丙烯中的部分或全部氢原子得到的聚合物。

2.根据权利要求1所述的石英玻璃酸刻蚀用掩膜，其特征在于，将所述的氟碳胶、固化剂和稀释剂混合，搅拌，静置30-45min。

3.一种石英玻璃摆片的酸刻蚀方法，其特征在于，包括：

掩膜涂覆：在石英玻璃基片表面涂覆掩膜，所述掩膜覆盖所述石英玻璃基片的全部表面，所述的掩膜为权利要求1或2所述的石英玻璃酸刻蚀用掩膜；

切割图案：所述的掩膜在所述石英玻璃基片上进行自然固化后，在所述的掩膜上切割出预设图案，除掉预设图案中的掩膜，露出石英玻璃基片；

加热固化：将所述具有预设图案掩膜的石英玻璃基片进行加热固化，增加掩膜与石英玻璃表面的附着力；

刻蚀：置入氢氟酸溶液中进行刻蚀；

脱膜：刻蚀后，除去石英玻璃表面的全部掩膜。

4.根据权利要求3所述的石英玻璃摆片的酸刻蚀方法，其特征在于，所述的掩膜涂覆包括：在石英玻璃基片的第一表面涂覆掩膜，并进行自然固化；然后，在石英玻璃的第二表面及侧面涂覆掩膜。

5.根据权利要求3所述的石英玻璃摆片的酸刻蚀方法，其特征在于，所述的切割图案包括，采用激光切割，所述激光同时切割玻璃基片两个表面的掩膜。

6.根据权利要求5所述的石英玻璃摆片的酸刻蚀方法，其特征在于，所述激光对所述石英玻璃基片的透过率大于85％。

7.根据权利要求3所述的石英玻璃摆片的酸刻蚀方法，其特征在于，所述加热固化包括：将玻璃基片和胶膜缓慢加热到50-80℃，并保持30-180min。

8.根据权利要求3所述的石英玻璃摆片的酸刻蚀方法，其特征在于，所述脱膜包括：将刻蚀后的摆片浸泡在有机溶剂中，至掩膜完全溶解，所述的有机溶剂为乙醇或者丙酮。

9.根据权利要求3-8任一项所述的石英玻璃摆片的酸刻蚀方法，其特征在于，所述的石英玻璃表面的掩膜涂覆厚度为0.05-0.2mm。

10.根据权利要求3-8任一项所述的石英玻璃摆片的酸刻蚀方法，其特征在于，所述的氢氟酸溶液中进行刻蚀包括：刻蚀速率1.0-2.0μ m/min，刻蚀时间大于250min。