[发明专利]基于新型介质填充方式的极低剖面柱面龙伯透镜天线有效
申请号: | 201610015855.0 | 申请日: | 2016-01-12 |
公开(公告)号: | CN105470660B | 公开(公告)日: | 2018-07-27 |
发明(设计)人: | 杨仕文;史志鹏;陈益凯;蒋秋芳;屈世伟 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | H01Q19/06 | 分类号: | H01Q19/06;H01Q15/00;H01Q15/02 |
代理公司: | 电子科技大学专利中心 51203 | 代理人: | 周刘英 |
地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 新型 介质 填充 方式 剖面 柱面 透镜天线 | ||
1.基于新型介质填充方式的极低剖面柱面龙伯透镜天线,包括位于上金属盖板(3)和下金属盖板(4)之间的柱面龙伯透镜、弧形馈源阵(1),以及位于柱面龙伯透镜的非辐射口径上的弧形金属反射挡板(2),其特征在于,所述柱面龙伯透镜包括具有同心圆结构的上填充介质片(6)和下填充介质片(5),且上填充介质片(6)的半径小于下填充介质片(5),上填充介质片(6)由圆心向外分布n层具有不同分布密度的通孔,下填充介质片(5)由圆心向外分布m层具有不同分布密度的通孔,其中m大于n,且下填充介质片(5)和上填充介质片(6)的前n层的等效介电常数一一对应相同。
2.如权利要求1所述的柱面龙伯透镜天线,其特征在于,上填充介质片(6)和下填充介质片(5)不同密度的通孔的层数关系为:m=n+1。
3.如权利要求1或2所述的柱面龙伯透镜天线,其特征在于,弧形馈源阵(1)沿柱面龙伯透镜的焦点所在圆周排列。
4.如权利要求3所述的柱面龙伯透镜天线,其特征在于,弧形馈源阵(1)包括多个沿柱面龙伯透镜的焦点所在圆周排列的开口脊波导馈源。
5.如权利要求4所述的柱面龙伯透镜天线,其特征在于,开口脊波导馈源的个数为3个,相邻开口脊波导馈源的间距为1.5°。
6.如权利要求1或2所述的柱面龙伯透镜天线,其特征在于,上填充介质片(6)的直径为30倍波长、下填充介质片(5)的直径为36倍波长。
7.如权利要求1或2所述的柱面龙伯透镜天线,其特征在于,上填充介质片(6)包括5层通孔、下填充介质片(5)包括6层通孔。
8.如权利要求1或2所述的柱面龙伯透镜天线,其特征在于,上金属盖板(3)、下金属盖板(4)的形状为两个具有不同半径的圆弧拼接而成,其中一个半径圆弧为130°,一个半径圆弧为230°。
9.如权利要求1或2所述的柱面龙伯透镜天线,其特征在于,上填充介质片(6)和下填充介质片(5)上分布的通孔为圆柱形通孔。
10.如权利要求1或2所述的柱面龙伯透镜天线,其特征在于,上填充介质片(6)和下填充介质片(5)的材料为低损耗微波基片。
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