[发明专利]氯硅烷残余气液物的处理方法及系统

权利要求书

1.一种氯硅烷残余气液混合物的处理方法，其特征在于，包括：

利用饱和盐酸溶液对所述氯硅烷残余气液混合物进行水解处理，以便得到含有二氧化硅 颗粒的固气混合物和含有二氧化硅的固液混合物；

对所述含有二氧化硅颗粒的固气混合物进行分离处理，以便得到二氧化硅颗粒和含有氯 化氢的混合气体；

对所述含有氯化氢的混合气体中的氯化氢进行吸收处理，以便得到盐酸；以及

将所述盐酸进行解析处理，以便得到氯化氢气体。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，进一步包括：

在所述解析处理前，利用盐酸储槽存储所述盐酸。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，进一步包括：

利用四氯化硅对所述氯化氢气体进行淋洗，以便得到干燥的氯化氢。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述水解处理和所述分离处理均是通过 利用饱和盐酸溶液对所述氯硅烷残余气液混合物淋洗进行的。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述吸收处理是利用降膜吸收装置或组 合吸收塔进行的。

6.一种氯硅烷残余气液混合物的处理系统，其特征在于，包括：

一级淋洗塔，所述一级淋洗塔具有本体、设置在所述本体上方的固气混合物出口和设置 在所述本体下方的固液混合物出口，所述一级淋洗塔利用饱和盐酸溶液对所述氯硅烷残余气 液混合物进行水解处理，以便得到含有二氧化硅颗粒的固气混合物和含有二氧化硅的固液混 合物；

二级淋洗塔，所述二级淋洗塔与所述固气混合物出口相连，所述二级淋洗塔用于对所述 含有二氧化硅颗粒的固气混合物进行分离处理，以便得到二氧化硅颗粒和含有氯化氢的混合 气体；

吸收装置，所述吸收装置与所述二级淋洗塔相连，所述吸收装置用于对所述含有氯化氢 的混合气体中的氯化氢进行吸收处理，以便得到盐酸；以及

盐酸解析装置，所述盐酸解析装置与所述吸收装置相连，所述盐酸解析装置用于将所述 盐酸进行解析处理，以便得到氯化氢气体。

7.根据权利要求6所述的系统，其特征在于，进一步包括：

盐酸储槽，所述盐酸储槽与所述吸收装置和所述盐酸解析装置相连，所述盐酸储槽用于 存储所述吸收处理得到的所述盐酸，并将所述盐酸以预定流量供给至所述盐酸解析装置。

8.根据权利要求6所述的系统，其特征在于，进一步包括：

干燥装置，所述干燥装置与所述盐酸解析装置相连，所述干燥装置利用四氯化硅对所述 氯化氢气体进行淋洗，以便得到干燥的氯化氢。

9.根据权利要求6所述的系统，其特征在于，进一步包括：

压滤机，所述压滤机与所述一级淋洗塔相连，所述压滤机用于对所述含有二氧化硅的固 液混合物进行压滤处理，以便得到二氧化硅粗品；

干燥脱酸装置，所述干燥脱酸装置与所述压滤机相连，所述干燥脱酸装置用于对所述二 氧化硅粗品进行干燥脱酸处理，以便得到二氧化硅产品。

10.根据权利要求6所述的系统，其特征在于，所述吸收装置是降膜吸收装置和/或组 合吸收塔。