[发明专利]一种腔静脉滤器镍钛支架在审

专利信息
申请号: 201610010533.7 申请日: 2016-01-08
公开(公告)号: CN105476729A 公开(公告)日: 2016-04-13
发明(设计)人: 刘威;陈庆福 申请(专利权)人: 江阴法尔胜佩尔新材料科技有限公司
主分类号: A61F2/01 分类号: A61F2/01
代理公司: 江阴市同盛专利事务所(普通合伙) 32210 代理人: 孙燕波
地址: 214434 江苏省无*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 静脉 滤器 支架
【说明书】:

技术领域

发明涉及腔静脉滤器支架,更具体地说是一种使用镍钛形状记忆合金加工的、可预防肺动脉栓塞的腔静脉滤器设计,属于医疗器械技术领域。

背景技术

肺动脉栓塞(PE)是指内源性或外源性栓子堵塞肺动脉或其分支引起肺循环障碍的临床和病理生理综合征。其中最主要、最常见的种类为肺动脉血栓栓塞(PTE),还包括其他以肺血栓性栓子栓塞为病因的类型,如脂肪栓塞、羊水栓塞、空气栓塞、异物栓塞和肿瘤栓塞。肺动脉栓塞后发生肺出血或坏死者称肺梗死。起源于肺动脉原位者称肺动脉血栓形成。

市场上传统的腔静脉滤器存在置入血管后位置移动、回收困难、回收时易造成血管内壁损伤、收集血栓不彻底、血栓遗留等问题。在生产制造方面,市场上传统的腔静脉滤器大多采用双头集束设计,使得生产所需的镍钛形状记忆合金管材长度偏长、定型困难,导致生产成本过高。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是针对上述现有技术提供一种设计简单的腔静脉滤器镍钛支架。该腔静脉滤器具有设计结构新颖、收集血栓效果显著、容易在血管内壁上固定(位置不偏移)、回收时对血管内壁不造成额外损伤、生产成本低等特点。

本发明解决上述问题所采用的技术方案为:一种腔静脉滤器镍钛支架,包括过滤网和集束端头,过滤网设置在集束端头的一端,所述过滤网能够展开成伞状或收拢成束状,所述集束端头的另一端设置有螺母用于与外部回收器连接。

具体地,所述过滤网包括对应架接的具有网状结构的单丝、若干定位主杆和若干定位副杆,在过滤网展开的状态下,所述若干定位主杆周向环绕构成过滤网的管状主体,所述若干定位副杆围成过滤网的网口。

优选地,所述定位副杆上设置有倒刺。

与现有技术相比,本发明的优点在于:

1)过滤网在释放展开状态下,形成网状结构,该网状结构比目前市场上传统滤器的网状更为密集,收集血栓效果更好。

2)过滤网的主体部分为中空管状,由若干环绕的主杆构成、若干副杆围绕成过滤网的网口,主杆和副杆均与血管壁紧密贴合,确保定位可靠。

3)过滤网网口即副杆的相应位置上设置有若干倒刺,使得该滤器可以稳固地锚定在血管内壁上,在血流的冲刷下也不会脱落。

4)回收滤器时,将回收杆拧入集束端头的螺母内,配合鞘管即可将该滤器收拢并回收到鞘管内。在回收过程中倒刺会顺从的收入鞘管内,而不会卡到鞘管壁上,使得该滤器的回收容易操作,且不易损伤血管内壁。

5)该滤器的螺母采用外沿与集束端管材的外径平齐,螺纹可以选择M0.8~M1.4范围。进行滤器回收操作时,使用大螺纹可以使得回收杆与滤器连接更为容易。

6)本发明滤器的长度仅有市场上传统滤器的一半到三分之二,可以节约33%~50%的镍钛形状记忆合金管材的使用量,进而降低生产成本。

7)该滤器由于采用单头集束设计,使得生产制造过程的定型工序更为容易操作,定型扩张时丝杆不容易断裂,提高了成材率,降低了生产成本。

附图说明

图1为本发明实施例中腔静脉滤器镍钛支架展开状态下的立体示意图;

图2为图1所示结构的正视图;

图3为图1所示结构的俯视图;

图4为本发明实施例中腔静脉滤器镍钛支架集束端头的剖视放大图;

图5为本发明实施例中腔静脉滤器镍钛支架收拢状态下的示意图。

具体实施方式

以下结合附图实施例对本发明作进一步详细描述。

如图1至5所示,本实施例中的腔静脉滤器支架是由镍钛形状记忆合金管材依次进行激光雕刻、喷砂、清洗、热处理定型、激光焊接、电化学抛光等工艺后制造而成的。包括过滤网和集束端头1。过滤网设置在集束端头1的一端,过滤网能够展开成伞状或收拢成束状,过滤网包括对应架接的具有网状结构的单丝3、八根定位主杆4和十六根定位副杆5,在过滤网展开的状态下,八根定位主杆4周向环绕构成过滤网的管状主体,十六根定位副杆5围成过滤网的网口且网口上均匀设置有八根倒刺6。

集束端头的另一端设置有螺母2,用于与外部回收器连接,螺母2的外沿与集束端头1的外径平齐,螺纹可以选择M0.8~M1.4范围的大螺纹,以方便与回收杆对接。

上述结构的腔静脉滤器,设计结构新颖、长度更小、收集血栓效果显著、易于在血管内壁上固定且固定可靠、滤器回收时对血管内壁不会造成额外损伤、回收操作简单。

除上述实施例外,本发明还包括有其他实施方式,凡采用等同变换或者等效替换方式形成的技术方案,均应落入本发明权利要求的保护范围之内。

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