[发明专利]观察装置

说明书

本发明以不会使装置大型化、且观察细胞等被摄体而不进行标记为目的，本发明的观察装置(1)具有：照明光学系统(6)，其从试样(X)的下方朝向斜上方射出照明光；以及物镜光学系统(5)，其在试样(X)的下方，以与照明光学系统(6)不同的路径拍摄从照明光学系统(6)射出的照明光在试样(X)的上方进行反射并透射过试样(X)的透射光，照明光学系统(6)具有光源(6a)、将来自光源(6a)的光限制在特定的射出区域(6e)内的掩模(6c)、使由掩模(6c)限制的光成为大致平行光的准直光学系统(6d)，照明光学系统(6)配置成，在射出区域(6e)被投影到物镜光学系统(5)的光瞳面上时，射出区域(6e)的投影像与光瞳的边缘部部分重合。

技术领域

本发明涉及观察装置。

背景技术

作为观察细胞等被摄体而不进行标记的装置，公知有使用相位差观察法和微分干涉观察法的观察装置(例如参照专利文献1。)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平7-261089号公报

发明内容

发明要解决的课题

但是，专利文献1的观察装置需要隔着被摄体来配置摄影光学系统和照明光学系统，存在装置大型化、复杂化这样的不良情况。

本发明是鉴于上述情况而完成的，其目的在于，提供不会使装置大型化、且能够观察细胞等被摄体而不进行标记的观察装置。

用于解决课题的手段

本发明的一个方式涉及一种观察装置，其中，所述观察装置具有：照明光学系统，其从试样的下方朝向斜上方射出照明光；以及物镜光学系统，其在所述试样的下方，以与所述照明光学系统不同的路径拍摄从该照明光学系统射出的照明光在所述试样的上方进行反射并透射过所述试样的透射光，所述照明光学系统具有光源、将来自该光源的光限制在特定的射出区域内的掩模、使由该掩模限制的光成为大致平行光的准直光学系统，所述照明光学系统配置成，在所述射出区域被投影到所述物镜光学系统的光瞳面上时，所述射出区域的投影像与所述光瞳的边缘部部分重合。

根据本方式，从光源发出的照明光从试样的下方朝向斜上方射出后，在试样的上方进行反射，从上方向下方透射过试样。通过配置在试样下方的与照明光学系统不同路径的物镜光学系统对透射过试样的透射光进行拍摄。在试样下方配置光源部和物镜光学系统双方，因此，不会使装置大型化，通过拍摄透射光，能够观察细胞等被摄体而不进行标记。

并且，从光源发出的光成为射出区域被掩模限制的照明光，而对试样进行照射，通过准直光学系统成为大致平行光后在试样的上方进行反射，入射到试样的下方的物镜光学系统的光瞳面附近。通过准直光学系统成为大致平行光后的照明光在试样的上方进行反射，因此，即使反射位置的高度变动，也不会使入射到物镜光学系统的透射光的角度变动。其结果，即使反射位置的高度变动，也不需要进行光源的位置调整，能够提高观察装置的鲁棒性。

在上述方式中，也可以满足条件式(1)。

(1)0.05≤d/D≤0.4

其中，D是所述物镜光学系统的光瞳直径，d是将所述射出区域投影到所述光瞳面上时的光束直径。

由此，不存在明亮度不均，能够进行基于高对比度的像的观察。当低于条件式(1)的下限时，容易受到物镜光学系统内的渐晕的影响，容易产生明亮度不均。并且，物镜光学系统内的透镜面的灰尘和伤痕容易被投影到像中而变得醒目。当高于条件式的上限时，试样的对比度较弱，不容易观察标本。

并且，在上述方式中，也可以满足条件式(2)。

(2)0.1≤ds/(NAo·Fi)≤0.8