[发明专利]用于热处理连续产品的成列基于等离子体的系统和方法

权利要求书

1.一种用于热处理连续产品的成列热处理系统，其包括：

气体供给系统，其配置为提供第一气流；

电源，其被配置为供电；以及

等离子体炬，其被配置为接收来自所述气体供给系统的所述第一气流和来自所述电源的电力以形成等离子体弧，其中所述等离子体弧加热设置在所述等离子体弧附近的所述连续产品的一部分。

2.根据权利要求1所述的热处理系统，其包括具有存储器和处理器的控制器，其中所述控制器被配置为基于存储在所述存储器中的指令来控制所述热处理系统的操作，以实现所述连续产品的所述部分的均匀加热。

3.根据权利要求2所述的热处理系统，其中所述控制器被配置为控制所述连续产品的推进速率、由所述电源供给的所述电力、所述第一气流的流动速率、所述等离子体弧相对于所述连续产品的位置和/取向、或所述连续产品附近的气氛的组成、或其组合。

4.根据权利要求3所述的热处理系统，其包括一个或多个传感器，所述一个或多个传感器通信地耦合到所述控制器并且被配置为直接或间接地测量所述连续产品的温度，直接或间接测量所述等离子体弧的温度，测量所述连续产品的所述推进速率、由所述电源供应的所述电力、所述第一气流的所述流动速率、所述等离子体弧相对于所述连续产品的位置和/或取向、或所述连续产品附近的所述气氛的所述组成、或其组合。

5.根据权利要求1所述的热处理系统，其包括第二等离子体炬，所述第二等离子体炬被配置为接收来自所述气体供给系统的所述第一气流和来自所述电源的电力以形成第二等离子体弧，其中所述第二等离子体弧加热设置在所述第二等离子体弧附近的所述连续产品的第二部分。

6.根据权利要求1所述的热处理系统，其中所述气体供给系统被配置为向所述热处理系统的一个或多个气体喷嘴提供第二气流，其中所述一个或多个气体喷嘴被配置为在加热期间和/或之后将所述第二气流引向所述连续产品的一个或多个表面。

7.根据权利要求6所述的热处理系统，其中所述第二气流包括反应性气体。

8.根据权利要求6所述的热处理系统，其中所述第一气流和所述第二气流由氩气、氦气、氮气或其组合组成。

9.根据权利要求8所述的热处理系统，其中所述一个或多个气体喷嘴被配置为将所述第二气流的至少一部分引向所述连续产品的所述一个或多个表面，以在等离子体加热之后冷却所述连续产品。

10.根据权利要求1所述的热处理系统，其中所述等离子体炬是转移电弧式等离子体炬。

11.根据权利要求10所述的热处理系统，其包括靶标，其中所述电源被配置为在所述等离子体炬的电极和所述靶标之间施加电偏压，以在所述等离子体炬和所述靶标之间形成所述等离子体弧。

12.根据权利要求11所述的热处理系统，其中所述等离子体炬和所述靶标都是水冷的。

13.根据权利要求11所述的热处理系统，其中所述等离子体炬被配置为在所述等离子体炬和所述靶标之间形成所述等离子体弧之前在所述等离子体炬的电极和所述等离子体炬的喷嘴之间临时建立导引电弧。

14.根据权利要求1所述的热处理系统，其包括壳体，所述壳体包括分别被配置为允许所述连续产品进入和离开所述壳体的第一开口和第二开口。

15.根据权利要求1所述的热处理系统，其中所述连续导电产品包括连续板、实线、管状线、条或片材。

16.根据权利要求9所述的热处理系统，其中所述连续产品是非导电连续产品。

17.一种方法，其包括：

推进连续产品通过成列热处理系统；

使用一个或多个等离子体炬用设置在所述连续产品的部分附近的一个或多个等离子体弧加热所述连续产品的一部分；以及

在等离子体加热所述连续产品期间和/或之后，供给至少一种气流来改变所述连续产品附近的气氛。