[发明专利]基于LiSbO3和LiNbO3相关结构的颜料有效

专利信息
申请号: 201580069225.5 申请日: 2015-11-02
公开(公告)号: CN107108263B 公开(公告)日: 2019-09-17
发明(设计)人: W·M·尤哈兹 申请(专利权)人: 谢珀德颜色公司
主分类号: C01G51/00 分类号: C01G51/00;C01G31/00;C01G33/00;C01G35/00;C09C1/00;C01G30/02;C08K9/02;C09C1/36;C08K3/24
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 陈文平;徐一琨
地址: 美国俄*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 混合物 阳离子 化合价 掺杂剂 颜料 氢氧根离子 结构类型 阴离子 空位 保留
【说明书】:

发明涉及衍生自具有LiSbO3型或LiNbO3型结构的化合物的颜料。这些化合物具有下述式M1M5Z3、M1M2M4M5Z6、M1M32M1M2M3M6Z6、M12M4M6Z6、M1M5M6Z6或其组合。阳离子M1是化合价为+1的元素或其混合物,阳离子M2是化合价为+2的元素或其混合物,阳离子M3是化合价为+3的元素或其混合物,阳离子M4是化合价为+4的元素或其混合物,阳离子M5是化合价为+5的元素或其混合物,并且阳离子M6是化合价为+6的元素或其混合物。阳离子M选自H、Li、Na、K、Rb、Cs、Mg、Ca、Sr、Ba、Sc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Fe、Ru、Co、Ni、Cu、Ag、Zn、B、Al、Ga、In、Si、Ge、Sn、P、Sb或Te。阴离子Z选自N、O、S、Se、Cl、F、氢氧根离子或其混合物。除上述元素以外,空位也可以存在于上述式的M或Z位置上,使得结构类型保留。上述式还可以包含20原子%以下的M掺杂剂添加,其中掺杂剂选自H、Li、Na、K、Rb、Cs、Mg、Ca、Sr、Ba、Sc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Fe、Ru、Co、Ni、Cu、Ag、Zn、B、Al、Ga、In、Si、Ge、Sn、P、Sb、Bi、Te或其混合物。

背景技术

基于LiSbO3和LiNbO3型结构的颜料尚未有报告。已经研究了涉及压电、线性和非线性光学材料应用的具有这些晶体结构类型的材料。以下工作公开了基于LiSbO3型和LiNbO3型结构的广泛的新颜料类型。这些材料具有独特的色彩质量以及异常高的化学稳定性。

发明内容

本工作中公开的颜料是具有与LiSbO3型或LiNbO3型结构相关的晶体结构的化合物。这些结构具有有着以下变体的化学式:

M1M5Z3

M1M2M4M5Z6

M1M32M5Z6

M1M2M3M6Z6

M12M4M6Z6

M1M5M6Z6

或其组合,

其中阳离子M1是化合价为+1的元素或其混合物,

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