[发明专利]双能量射线照相中的运动校正方法

权利要求书

1.一种用于在双能量射线照相成像方法中校正运动伪像的方法，包括全局位置校正步骤，所述全局位置校正步骤全局地校正相同对象的高能和低能射线照相原生图像的至少一个中的像素的位置，其后面是局部位置校正步骤，所述局部位置校正步骤局部地校正全局校正的图像中的像素位置，

其中所述全局位置校正步骤包括：

- 针对所述低能和高能原生图像之一中的多个预定义的控制点，使用以所述控制点为中心的局部图像补丁来确定多个平移偏移的局部接近度值，

- 从所确定的接近度值导出针对所述控制点中的每个的位移矢量，

- 从所述位移矢量推导出针对翘曲变换的翘曲系数，

- 将所述翘曲变换应用到所述低能和高能原生图像之一以获得全局校正的图像，并且

其中所述全局校正的图像通过下列各项被进一步局部校正：

- 在所述全局校正的图像和未全局校正的低能或高能原生图像中定义多个重叠瓦片，

- 计算针对所述瓦片中的每个的局部位移矢量，

- 使用所述局部位移矢量来构建位移图，

- 将所述位移图应用到所述全局校正的图像。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述翘曲变换是双线性翘曲变换。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述成像方法是胸部成像方法，并且所述控制点是基本上描绘胸部图像中的肺野的四边形的拐角点。

4.根据权利要求3所述的方法，其中定义并使用另外的控制点来导出所述位移矢量。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述位移矢量是针对其而言为所述多个平移偏移获得的所述局部接近度值达到最大值并且超过预定义阈值的平移偏移。

6.根据权利要求3所述的方法，其中所述局部接近度值被定义为以所述低能和高能原生图像中的一个中的所述拐角点为中心的图像补丁和所述低能和高能原生图像中的另一个的模板的交叉相关系数。

7.根据权利要求6所述的方法，其中所述低能和高能原生图像中的至少一个被用乘法解调。

8.根据权利要求5所述的方法，其中所述局部接近度值被定义为所述低能和高能原生图像之一中的图像补丁和另一原生图像的模板的交叉相关系数。

9.根据权利要求8所述的方法，其中所述全局校正的图像和所述非全局校正的原生图像中的至少一个被用乘法解调。

10.根据权利要求1所述的方法，其中通过将插值应用到所述位移图的值来计算针对每个像素的位移矢量。

11.根据权利要求1所述的方法，其中使用双线性插值来将所述位移图应用到全局校正的图像。