[发明专利]流体施加装置中的偏流器

权利要求书

1.一种用于流体施加装置的偏流器，所述偏流器包括：

插头，所述插头被配置成用于可移除的插入在流体输入导管和两个或更多个流体输出导管之间的施加器头部中，所述插头包括两个或更多个通道，每个通道与所述流体输入导管和所述两个或更多个流体输出导管中的相应的流体输出导管流体连通，所述两个或更多个通道形成于所述插头的外表面上；

其中在所述插头上，所述两个或更多个通道中的每一个通道与所述两个或更多个通道中的每个其他通道流体分离；

其中所述两个或更多个通道中的至少一个通道包括多个周向的流动节段和流体连接所述多个周向的流动节段的轴向延伸的连接通道；并且

其中所述多个周向的流动节段包括至少第一周向的流动节段和第二周向的流动节段，所述第二周向的流动节段在所述插头上相对于所述第一周向的流动节段轴向设置在外，并且其中所述第二周向的流动节段被配置成经由所述轴向延伸的连接通道接收来自所述第一周向的流动节段的流体。

2.如权利要求1所述的偏流器，其中所述两个或更多个通道中的一个通道被配置成允许与所述两个或更多个通道中的另一个通道具有不同的体积流率。

3.如权利要求1所述的偏流器，其中所述两个或更多个通道包括第一、第二和第三通道。

4.如权利要求3所述的偏流器，其中所述第二通道被安置在所述第一通道和所述第三通道之间，并且所述第一通道、所述第二通道和所述第三通道中的至少一个通道被配置成提供与所述第一通道、所述第二通道和所述第三通道中的其他通道不同的体积流率。

5.一种流体施加装置，包括：

施加器头部，所述施加器头部具有在内部形成的歧管，所述歧管包括流体输入导管、两个或更多个流体输出导管、以及室，所述室被设置在所述流体输入导管和所述两个或更多个流体输出导管之间并且流体连接所述流体输入导管和所述两个或更多个流体输出导管；

在所述施加器头部上的外部附接表面，所述外部附接表面被配置成具有选择性地并且可移除地固定到所述外部附接表面的两个或更多个喷嘴，每个喷嘴被配置成从所述两个或更多个流体输出导管中的相应的流体输出接收所述流体；以及

可移除地设置在所述室中的偏流器，所述偏流器包括具有两个或更多个通道的插头，每个通道与所述流体输入导管和所述两个或更多个流体输出导管中的相应的流体输出导管流体连通，

其中所述流体输入导管被配置成从供应源接收流体，并且所述两个或更多个流体输出导管被配置成将所述流体从所述施加器头部排放到相应的喷嘴。

6.如权利要求5所述的流体施加装置，其中所述两个或更多个通道中的一个通道被配置成允许与所述两个或更多个通道中的另一个通道具有不同的体积流率。

7.如权利要求5所述的流体施加装置，其中所述两个或更多个通道被形成在所述插头的外表面上。

8.如权利要求7所述的流体施加装置，其中所述更多个通道包括第一、第二和第三通道。

9.如权利要求8所述的流体施加装置，其中所述第二通道被安置在所述第一通道和所述第三通道之间，并且所述第一通道、所述第二通道和所述第三通道中的至少一个通道被配置成提供与所述第一通道、所述第二通道和所述第三通道中的其他通道不同的体积流率。

10.如权利要求5所述的流体施加装置，进一步包括被安置在所述两个或更多个通道中的每个通道的上游并且与所述两个或更多个通道中的所述每个通道流体连通的公用通道。

11.如权利要求10所述的流体施加装置，其中所述公用通道在所述插头内部延伸并且所述两个或更多个通道从所述两个或更多个通道的外圆周表面向内延伸至所述公用通道。

12.如权利要求10所述的流体施加装置，其中所述更多个通道包括三个通道。