[发明专利]等离子废气净化

权利要求书

1.用于对聚合物熔体除气并且用于无害化在此产生的有害物质的方法，包括以下方法步骤：

-借助真空设备产生负压或真空，

-将负压或真空输送给除气区，聚合物熔体处于所述除气区中，

-通过真空设备从除气区(VD；VD1、VD2)去除的或吸出的废气或者废气与液态和/或固态组分形式的有害物质在后续的过滤器级和/或分离器(4；4.1、4.2)中分离，

-将有害物质在从除气区(VD；VD1、VD2)去除之后并且在输送给过滤器级或分离器(4；4.1、4.2)之前输送给等离子源(2；2.1、2.2、2.3、2.4)，所述等离子源这样构造和/或构成，使得在等离子源(2；2.1、2.2、2.3、2.4)中，有害物质完全或部分地转变成等离子聚集态，

-给所述有害物质输送工艺气体，所述工艺气体包括氧气、氮气、二氧化碳、氩气、外界空气和/或水蒸汽，

其特征在于以下其他的特征：

-从除气区(VD；VD1、VD2)去除的并且输送给等离子源(2；2.1、2.2、2.3、2.4)的有害物质通过导管系统向前运动，所述导管系统为了避免沉积而被加热到至少150℃，

-单个或多个等离子源(2；2.1、2.2、2.3、2.4)通过设置在导管(11、11a、11b、12、12a、12b、13)中的阀(A、A.1、A.2、B、B.1、B.2、C、C.1、C.2、D、D.1、D.2、E、E.1、E.2、F、F.1、F.2)可接通或可切断，并且

-以并联的切换阀形式的具有不同的流经横截面的切换阀连接于等离子源的上游和下游。

2.按照权利要求1所述的方法，其特征在于，在输送至等离子源(2；2.1、2.2、2.3、2.4)之前或输送到等离子源(2；2.1、2.2、2.3、2.4)中期间附加地给所述有害物质输送工艺气体。

3.按照权利要求1或2所述的方法，其特征在于，有害物质在等离子源(2；2.1、2.2、2.3、2.4)中在供应能量的情况下转变成等离子聚集态。

4.按照权利要求3所述的方法，其特征在于，有害物质在等离子源(2；2.1、2.2、2.3、2.4)中通过热激励、通过电磁辐射包括激光辐射、通过静电场和/或电磁场和/或通过交变电场、通过感应激励和/或借助微波转变成等离子聚集态。

5.按照权利要求1所述的方法，其特征在于，所述导管系统为了避免沉积而被加热到至少200℃。

6.按照权利要求1所述的方法，其特征在于，有害物质在除气区(VD；VD1、VD2)和等离子源(2；2.1、2.2、2.3、2.4)之间加热到150℃至300℃的温度范围。

7.按照权利要求6所述的方法，其特征在于，有害物质在除气区(VD；VD1、VD2)和等离子源(2；2.1、2.2、2.3、2.4)之间加热到200℃至300℃。

8.按照权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述有害物质输送给多个相继连接的等离子源(2；2.1、2.2、2.3、2.4)，以用于产生等离子状的状态。

9.按照权利要求1或2所述的方法，其特征在于，多个等离子源(2；2.1、2.2、2.3、2.4)彼此并联连接，以便在运行过程期间实施从一个等离子源(2；2.1、2.2、2.3、2.4)到与其分开的第二等离子源(2；2.1、2.2、2.3、2.4)的转换。

10.按照权利要求1或2所述的方法，其特征在于，设置多个等离子源(2；2.1、2.2、2.3、2.4)，所述等离子源彼此部分串联并且部分并联地运行。

11.按照权利要求1或2所述的方法，其特征在于，使用如下等离子源(2；2.1、2.2、2.3、2.4)，所述等离子源这样构成，使得在其中有害物质的至少20％转变成等离子聚集态。