[发明专利]用于镍层无电沉积的镀浴及方法

说明书

本发明涉及利用包含a)选自铟和镓的金属离子和b)含有碘的无机化合物的稳定剂混合物以增强浴稳定性的沉积镍和镍合金的含水镀浴组合物及方法。

技术领域

本发明涉及用于镍和镍合金无电沉积的含水镀浴组合物。本发明进一步涉及一种利用含水镀浴组合物无电沉积镍和镍合金的方法。所述含水镀浴组合物具有抗不想要的分解作用的高稳定性。通过本发明得到的镍和镍合金涂层显示高耐蚀性和对下方衬底的粘着性。

此类涂层适合在航天、汽车、电子和化学工业中作为功能涂层。从此类含水镀浴组合物沉积的金属层还在半导体装置、印刷电路板、IC衬底等等中用作障壁层和覆盖层。沉积的金属层还适合作为硬盘或硬质存储器磁盘(RMD)的保护层。

背景技术

障壁层用于例如半导体装置、印刷电路板、IC衬底等等电子装置以分离不同组成的层，例如衬底层与额外层，及由此防止在此类不同组成的层间的不想要的扩散。

在电子装置中障壁层材料的另一应用是作为覆盖层，其例如沉积在铜上以防止铜腐蚀。

硬质存储器磁盘在硬盘驱动器中用作磁性数据存储介质。磁盘主要由铝、玻璃或陶瓷质的衬底构成。通过真空沉积工艺或无电金属镀覆工艺将保护层沉积在所述衬底上。所述保护层可由各种金属、大部分非磁性合金构成，其中一者可为镍磷合金层。所述保护层提供例如磁记录层沉积在其上的平滑表面。将额外保护层涂布在所述记录层上。

镍和镍合金沉积物的另一应用是用于各种衬底的腐蚀保护。

用于无电镍镀液的组合物在所属领域中众所周知。例如，美国专利2,658,841教示可溶有机酸盐作为无电镍镀液的缓冲液的用途。美国专利2,658,842教示短链二羧酸作为无电镍浴强化剂(exaltant)的用途。美国专利2,762,723教示硫化物和含硫的添加剂用于无电镍镀浴以供改良浴稳定性的用途。

专利申请JP 2005-194562公开一种含有铟化合物作为浴稳定剂的无电镍镀浴。美国专利4,189,324描述一种无电镍镀液，其包括改良所述镀液稳定性的镓源。背景技术档案均未教示在无电镍镀覆组合物中具有特别良好稳定效应的特定稳定剂混合物。

发明目标

本发明的目标是提供一种具有抗不想要的分解作用的高稳定性的用于沉积镍和镍合金的无电镀浴。本发明的额外目标是提供在使用期间和存储期间具有高稳定性的无电镍和镍合金镀浴。此外，本发明的目标是提供一种具有良好镀覆性能及产生良好质量的涂层的用于沉积镍和镍合金的无电镀浴。

发明内容

通过提供用于无电沉积镍和镍合金的含水镀浴组合物实现此目标，所述组合物包括

(i)镍离子源，

其特征在于所述含水镀浴组合物进一步包括

(ii)包括下列各物的稳定剂混合物

a)至少一种选自铟离子和镓离子的金属离子，和

b)选自元素碘、含碘离子的化合物、含碘酸根离子的化合物和含过碘酸根离子的化合物中的至少一者。

本发明进一步涉及一种通过使待镀覆的衬底与上文描述的组合物接触，沉积镍和镍合金的方法。术语“用于无电沉积镍和镍合金的含水镀浴组合物”于本文也缩写为“组合物”。此外，本发明涉及一种通过将稳定剂混合物添加到所述无电镀浴来稳定任何用于沉积镍和镍合金的无电镀浴的方法。

具体实施方式