[发明专利]硬涂薄膜的制造方法及硬涂薄膜

说明书

本发明提供一种硬涂薄膜的制造方法及硬涂薄膜。本发明的硬涂薄膜的制造方法中，所述硬涂薄膜通过在基材薄膜上涂布硬涂层形成用组合物并进行干燥、固化而具有表面的水的接触角为65°以下的硬涂层，其中，上述硬涂层形成用组合物至少含有下述(a)～(d)，当将上述硬涂层形成用组合物的总固体成分设为100质量％时，在40～80质量％的范围内含有下述(b)，在10～40质量％的范围内含有下述(c)，在10～40质量％的范围内含有下述(d)，(a)表面张力10～22mN/m的低表面张力溶剂与表面张力大于22mN/m的标准表面张力溶剂的混合溶剂，是低表面张力溶剂相对于上述混合溶剂总量的含量为5质量％～40质量％的混合溶剂；(b)在分子内具有3个以上的烯属不饱和双键基团且上述烯属不饱和双键基团当量为80～130的聚合性化合物；(c)具有与环氧基或烯属不饱和双键基团的反应性的无机微粒；(d)在分子内具有1个以上的脂环式环氧基且分子量为300以下的化合物。

技术领域

本发明涉及一种硬涂薄膜的制造方法及硬涂薄膜。

背景技术

近年来，对于在基材上设置硬涂层而成的硬涂薄膜，通过层叠与用途相应的其他层例如抗静电层、高折射率层、低折射率层、相位差层、接合层等来实现多功能化的要求较高。当将具有烯属不饱和双键基团的化合物固化而制作硬涂层时，其表面成为疏水性的情况较多。在硬涂层上层叠其他层的情况下，若成为下层的硬涂层表面为疏水性，则使用亲水性组合物作为上层的涂布组合物时不会浸渗从而导致发生凹陷。因此，通过将硬涂层表面设为亲水性(水的接触角较低)，能够在上层形成没有凹陷的均匀的涂膜。

例如，专利文献1中记载有在涂设硬涂层之后通过进行电晕放电处理或辉光放电处理而降低相对于水的接触角。

并且，专利文献2中记载有通过对硬涂层进行碱处理或电晕处理等表面处理来提高与作为上层的低折射率层的粘附性。

另一方面，为了使硬涂层本身的涂膜变得平滑，一般利用在硬涂层形成用组合物中添加硅酮类化合物、或含氟基聚合物等表面活性剂(流平剂)的方法。认为表面活性剂通过其疏水性而偏在于涂膜表面，从而降低涂膜的表面张力而赋予流平性。但是，这种表面活性剂在硬膜后也残存于硬涂层表面，会使表面疏水化，因此如上所述，在硬涂层上层叠其他层时成为问题。

作为以维持流平性的状态使硬涂层的表面亲水化的方法，专利文献1中记载有通过添加阴离子性、非离子性或甜菜碱性的表面活性剂来降低水的接触角。

并且，专利文献3中记载有不使用表面活性剂而使用特定量的沸点及粘度在特定范围内的溶剂。

以往技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2001-272503号公报

专利文献2：日本特开2002-265866号公报

专利文献3：日本特开2011-212554号公报

发明内容

发明要解决的技术课题

然而，如专利文献1那样，在添加了阴离子性、非离子性、或甜菜碱性的表面活性剂的情况下，硬涂层的表面张力不易降低，在硬涂层本身的平滑性的观点上有改善的余地。并且，表面活性剂的表面偏在性较低而分布于硬涂层内，因此在硬度的观点上也有改善的余地。

当利用如专利文献1及2的表面处理时，碱处理时流平剂的残存量根据硬涂层表面的固化状态而灵敏地变化，因此无法稳定地减小水的接触角，并且，电晕处理等放电处理时照射较高的能量，因此有可能发生膜的变形和针孔的产生、面内的水的接触角的不均匀。

并且，通过专利文献3中所记载的发明实现的水的接触角高至80～88度，作为亲水性并不充分，因此层叠于上层的涂布组合物为容易发生凹陷的物理性质(低粘度、高表面张力等)时，容易发生凹陷，会损害膜的均匀性。