[发明专利]用于流体的处理的方法、系统和设备

权利要求书

1.一种用于流体的处理的设备，包括：

流体腔室，包括中心轴线；以及

至少一个紫外光单元；

其中所述至少一个紫外光单元包括至少一个紫外线发光二极管和至少一个紫外光引导元件；

其中所述至少一个紫外光引导元件被配置为在使用中对从所述至少一个紫外线发光二极管发射的光线的至少一部分进行准直，以使得所述准直的光线在与所述中心轴线重合或平行于所述中心轴线的第一平面中是平行的。

2.如权利要求1所述的设备，其中所述至少一个紫外光引导元件被配置为在使用中会聚或散射从所述至少一个紫外光单元发射的所述光线的至少一部分，以使得所述散射或会聚的光线在垂直于第一平面的第二平面中是非平行的。

3.如权利要求2所述的设备，其中所述紫外光引导元件被配置为在第二平面中会聚所述光线。

4.如权利要求3所述的设备，其中所述紫外光引导元件被配置为会聚所述光线以聚焦在所述中心轴线处或聚焦在所述中心轴线附近。

5.如权利要求2所述的设备，其中所述紫外光引导元件被配置为在第二平面中散射所述光线。

6.如前面任何一项权利要求所述的设备，包括多个紫外光单元。

7.如权利要求6所述的设备，其中所述多个紫外光单元被布置在所述流体腔室的圆周或外围处。

8.如权利要求7所述的设备，其中所述多个紫外光单元被布置成径向地围绕所述流体腔室的所述圆周或外围。

9.如权利要求6所述的设备，其中所述多个紫外光单元与所述流体腔室的所述圆周或外围分隔开。

10.如权利要求8或权利要求9所述的设备，其中所述多个紫外光单元被布置在围绕所述流体腔室的所述圆周或外围的一个或多个环或环形部分中。

11.如权利要求10所述的设备，其中紫外光单元的相邻的环以确保在使用中待处理流体按照想要的图案暴露于UV光所需的量彼此旋转地偏移。

12.如前面任何一项权利要求所述的设备，其中所述流体腔室是透明的。

13.如权利要求12所述的设备，其中所述至少一个紫外光单元被布置在所述流体腔室上或布置在所述流体腔室的外面的外部。

14.如权利要求13所述的设备，还包括：覆盖件，布置在所述流体腔室的所述外面，其中所述至少一个紫外光单元被安装在所述覆盖件中，与所述覆盖件相互作用，或由所述覆盖件支撑。

15.如权利要求14所述的设备，其中所述覆盖件由阻挡紫外光的材料形成，并且包括至少一个孔径，所述至少一个孔径被布置成在使用中允许由所述紫外光单元发射的紫外光进入到所述流体腔室中。

16.如前面任何一项权利要求所述的设备，其中所述光引导元件是反射器。

17.如权利要求16所述的设备，其中所述至少一个发光二极管中的每个发光二极管位于所述反射器的焦点处。

18.如权利要求16或权利要求17所述的设备，其中所述流体腔室的中心轴线位于所述反射器的焦点处或位于所述反射器的焦点附近。

19.如前面任何一项权利要求所述的设备，其中所述中心轴线包括所述流体腔室的纵向轴线。

20.如前面任何一项权利要求所述的设备，其中所述中心轴线以高达45度的角度相对所述流体腔室的纵向轴线偏移。

21.如前面任何一项权利要求所述的设备，其中所述流体腔室是管子。

22.一种用于流体的处理的设备，包括：

流体腔室；以及

至少一个紫外光单元；

其中所述至少一个紫外光单元包括至少一个紫外线发光二极管和至少一个紫外光引导元件；以及

其中所述至少一个紫外光引导元件被配置为在使用中对从所述至少一个紫外线发光二极管发射的光线的至少一部分进行准直，以使得从每个紫外光单元发射的紫外光线仅在第一方向上是平行的。

23.如前面任何一项权利要求所述的设备，还包括：一个或多个元件，用于在使用中对于待处理流体引起旋转或旋涡运动。