[发明专利]浮区硅晶片制造系统有效
| 申请号： | 201580015272.1 | 申请日： | 2015-02-18 |
| 公开（公告）号： | CN106133210B | 公开（公告）日： | 2018-10-12 |
| 发明（设计）人： | A·X·雅库博;J·B·罗森茨威格;M·S·格尔斯基 | 申请（专利权）人： | 雷顿太阳能股份有限公司 |
| 主分类号： | C30B33/04 | 分类号： | C30B33/04;C30B31/22 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 孙爱 |
| 地址： | 美国加*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 浮区硅 晶片 制造 系统 | ||
【说明书】：
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