[实用新型]具彩色光阻图案的曲面装置有效
申请号: | 201521083640.X | 申请日: | 2015-12-23 |
公开(公告)号: | CN205318085U | 公开(公告)日: | 2016-06-15 |
发明(设计)人: | 许铭案;林文福 | 申请(专利权)人: | 许铭案;林文福 |
主分类号: | G03F1/60 | 分类号: | G03F1/60;G03F1/76;G03F7/00;G03F7/20;G09F9/30 |
代理公司: | 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 | 代理人: | 马廷昭 |
地址: | 中国台湾苗栗*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 彩色 图案 曲面 装置 | ||
技术领域
本实用新型关于一种彩色光阻,特别关于一种具彩色光阻图案的曲面装置。
背景技术
目前,智能型装置如智能型手机、智能型手表、智能型医疗器材等,都搭配有大屏 幕让用户观看屏幕上的信息。这些具有大屏幕的装置,除了功能强大外,逐渐都走向个性 化、美观的造型设计,包括外观、形状、色彩等。这些都必须透过令人激赏的外壳设计与制造 来实现。而目前,曲面化的外壳造型,特别吸引人,也逐渐成为智能型装置的未来潮流。
目前,对于智能型装置的曲面化外壳的图案制作,有以下几种工法:第一种工法: 转印技术。透过预先制作的平面图样,再转印到目标的曲面。此种工法的加工成本低,但加 工速度慢、材料成本高,且线路分辨率差。第二种工法:喷墨+激光雕刻。透过喷墨方法将颜 料喷至目标的曲面,再透过激光雕刻的方式将图案刻出。此种工法加工成本高且加工速度 慢,设备成本也很高,材料成本也高,优点是,线路分辨率高,可达20μm(微米)。
因此,如何能开发出同时具备加工成本低、加工速度快、材料成本低、线路分辨率 高的多重优点,并且,可曲面外壳上制作出彩色图案的方法,成为智能型装置厂商所希求的 发展方向。
实用新型内容
有鉴于此,本实用新型的主要目的在于提供一种加工成本低、加工速度快、材料成 本低、线路分辨率高的具彩色光阻图案的曲面装置。
为达到上述目的,本实用新型提供一种具彩色光阻图案的曲面装置,其包含:一曲 面基材;及至少两层彩色光阻层,形成于该曲面基材上;其中,该至少两层彩色光阻层共同 构成一图案,该图案可视。
于该图案边界处,该至少两层彩色光阻层构成一斜坡且每层彩色光阻层均与该曲 面基材相连接。
该彩色光阻层的厚度介于0.5-30微米。
该图案的线宽大于10微米。
该至少两层彩色光阻层的最上层为透明色。
硬化后的该至少两层彩色光阻层的硬度介于2H-4H。
该曲面基材为玻璃曲面基材、塑料曲面基材或陶瓷曲面基材。
本实用新型提供的具彩色光阻图案的曲面装置,可解决传统技术的加工速度慢、 材料成本高、无法兼具线路分辨率高的状况,达到加工成本低、加速速度快、材料成本低、线 路分辨率高等综合技术功效。
附图说明
图1A为本实用新型的彩色光阻图案的制作方法流程图的一实施例。
图1B为本实用新型的彩色光阻图案的制作方法流程图的又一实施例。
图2为运用本实用新型的形成彩色光阻图案的方法所制作的手机曲面基材俯视 图。
图3A-图3G为本实用新型的彩色光阻图案的制作流程的实体制作流程的具体实施 例示意图,图中显示沿图2的A-A线的剖面图。
图4A为本实用新型的彩色光阻图案的曲面形光罩的另一具体实施例剖面图,图中 显示沿图4B的A-A线的剖面图。
图4B为本实用新型的彩色光阻图案的曲面形光罩的另一具体实施例俯视图。
图5A为本实用新型的彩色光阻图案的曲面形光罩的又一具体实施例剖面图,图中 显示沿图5B的A-A线的剖面图。
图5B为本实用新型的彩色光阻图案的曲面形光罩的又一具体实施例俯视图。
图6为本实用新型的彩色光阻图案的电子显微摄影剖面图。
附图标记说明
10曲面基材
21、22、23彩色光阻层
211、221、231未曝光彩色光阻层
212、222、232已曝光彩色光阻层
30、30-1、30-2曲面形光罩
31图案部
32非图案部
40紫外光
步骤101:运用喷涂法依序形成至少两层彩色光阻层的一彩色光阻复合层于一曲 面基材上;
步骤102:运用喷涂法依序形成至少两层彩色光阻层的一彩色光阻复合层于一曲 面基材上,每次形成一层彩色光阻层后进行预热,再形成下一层彩色光阻层;
步骤103:预热该彩色光阻复合层;
步骤105:以一曲面形光罩进行曝光程序,该曲面形光罩具有预定的一图案;
步骤107:移除非该图案的彩色光阻复合层的部分,以构成一彩色光阻图案;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于许铭案;林文福,未经许铭案;林文福许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201521083640.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种电子照相印刷装置
- 下一篇:LED补光灯
- 同类专利
- 专利分类
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备