[实用新型]一种非回转类部件的机械限位装置有效

专利信息
申请号: 201520986442.8 申请日: 2015-12-02
公开(公告)号: CN205166631U 公开(公告)日: 2016-04-20
发明(设计)人: 何卫东;韩炜;安永刚;彭小峰;李佳鹏;刘贝贝;杨瑞 申请(专利权)人: 西安拽亘弗莱工业自动化科技有限公司
主分类号: B24B29/00 分类号: B24B29/00;B24B41/00
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地址: 710100 陕西省西安市高新区*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 回转 部件 机械 限位 装置
【说明书】:

技术领域:

实用新型涉及抛光设备技术领域,具体涉及一种非回转类部件的机械限位装置。

背景技术:

抛光是使用物理机械或化学药品降低物体表面粗糙度的工艺。抛光技术主要在精密机械和光学工业中使用。抛光后的工件表面光滑具有良好的反射效果。工件抛光后会减少厚度并容易划伤,必须使用细丝绒布,麂皮,天鹅毛和专用清洗剂清洁表面。

机械抛光是靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法,一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等,以手工操作为主,特殊零件如回转体表面,可使用转台等辅助工具,表面质量要求高的可采用超精研抛的方法。超精研抛是采用特制的磨具,在含有磨料的研抛液中,紧压在工件被加工表面上,作高速旋转运动。

现有抛光设备中要用到各类的限位装置,一些是可以回转的,一些是不必回转的;目前非回转类部件的限位装置多是孔径对位限位装置,对产品精度的要求很高,对技术人员的要求也同样很高,这便增加了成本,且这样的孔径存在磨损,一段时间后必须更换,否则会影响加工。

实用新型内容:

针对上述问题,本实用新型要解决的技术问题是提供一种结构设计合理、操作方便、加工效率高、且质量稳定的非回转类部件的机械限位装置。

本实用新型的一种非回转类部件的机械限位装置,它包含固定座、挡块定位组件、接近传感器一、滑动撞块、大弹簧、小弹簧、移动座、护盖、接近传感器二、转轴、V型挡块;所述的挡块定位组件设置在固定座的中间;所述的挡块定位组件的底部设有V型挡块;所述的移动座活动设置在固定座的上方;所述的移动座的底部设有接近传感器一;所述的移动座的底部设有相互配合的大弹簧、小弹簧;所述的大弹簧的上方设有滑动撞块;所述的固定座的顶部设有护盖;所述的护盖与移动座之间的空隙处设有接近传感器二;所述的移动座与挡块定位组件之间通过转轴连接。

作为优选,所述的大弹簧、小弹簧错位交叉的地方设有缓冲橡胶圈,避免弹簧之间的错位镶嵌。

作为优选,所述的V型挡块活动设置在固定座中。

本实用新型操作时,通过大弹簧、小弹簧的活动实现限位的缓冲,通过两个接近传感器可实现智能限位,挡块定位组件与V型挡块的配合提高了限位的稳定性。

本实用新型的有益效果:它结构设计合理,操作方便,灵活性好,实现了弹性的机械限位,限位的稳定性好,且准确度高,有利于抛光设备的灵活操作。

附图说明:

为了易于说明,本实用新型由下述的具体实施及附图作以详细描述。

图1是本实用新型的结构示意图;

图2是图1的右视图;

图中:

固定座1、挡块定位组件2、接近传感器一3、滑动撞块4、大弹簧5、小弹簧6、移动座7、护盖8、接近传感器二9、转轴10、V型挡块11、缓冲橡胶圈12。

具体实施方式:

如图1至图2所示,本具体实施方式采用以下技术方案:它包含固定座1、挡块定位组件2、接近传感器一3、滑动撞块4、大弹簧5、小弹簧6、移动座7、护盖8、接近传感器二9、转轴10、V型挡块11;所述的挡块定位组件2设置在固定座1的中间;所述的挡块定位组件2的底部设有V型挡块11;所述的移动座7活动设置在固定座1的上方;所述的移动座7的底部设有接近传感器一3;所述的移动座7的底部设有相互配合的大弹簧5、小弹簧6;所述的大弹簧5的上方设有滑动撞块4;所述的固定座1的顶部设有护盖8;所述的护盖8与移动座7之间的空隙处设有接近传感器二9;所述的移动座7与挡块定位组件2之间通过转轴10连接。

其中,所述的大弹簧5、小弹簧6错位交叉的地方设有缓冲橡胶圈12,避免弹簧之间的错位镶嵌。

作为优选,所述的V型挡块11活动设置在固定座1中。

本具体实施方式操作时,通过大弹簧5、小弹簧6的活动实现限位的缓冲,通过两个接近传感器可实现智能限位,挡块定位组件2与V型挡块的配合提高了限位的稳定性。

本具体实施方式结构设计合理,操作方便,灵活性好,实现了弹性的机械限位,限位的稳定性好,且准确度高,有利于抛光设备的灵活操作。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征以及本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

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