[实用新型]氧化镁涂层涂覆设备有效

专利信息
申请号: 201520949312.7 申请日: 2015-11-24
公开(公告)号: CN205199845U 公开(公告)日: 2016-05-04
发明(设计)人: 孟凡亮 申请(专利权)人: 山东以利奥林电力科技有限公司
主分类号: B05C9/04 分类号: B05C9/04;B05C11/10
代理公司: 长沙星耀专利事务所 43205 代理人: 许伯严
地址: 271000 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 氧化镁 涂层 设备
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及硅钢生产设备领域,具体涉及一种氧化镁涂层涂 覆设备。

背景技术

取向硅钢高温退火前需要对钢卷涂覆氧化镁涂层,氧化镁涂层可 防止钢带在高温退火时发生粘结。氧化镁和钢带表面氧化层中的二氧 化硅反应生成的硅酸镁玻璃膜不但具有一定的绝缘性和耐蚀性,还可 在净化阶段促进钢卷脱硫和脱氧。

现有技术的氧化镁涂覆设备通过向钢带表面喷涂氧化镁涂液,并 利用两辊转动涂覆均匀。由于重力的作用,喷涂在下表面的涂覆液大 多滴落至下部的收集槽内,造成钢带下表面的涂布量通常会小于上表 面涂布量,影响钢带性能,导致高温退火时粘带现象的发生。

实用新型内容

为解决现有技术的氧化镁涂覆设备涂覆不均匀,影响钢带性能的 技术问题,本实用新型提供一种涂覆均匀,钢带性能好的氧化镁涂层 涂覆设备。

一种氧化镁涂层涂覆设备,包括机架、二涂覆辊、二喷头和二流 量控制阀,二所述涂覆辊设于所述机架,且沿竖直方向排列,二所述 喷头分别设于二所述涂覆辊同一侧,且沿竖直方向排列,二所述流量 控制阀分别与二所述喷头管道连接。

在本实用新型提供的氧化镁涂层涂覆设备的一种较佳实施例中, 所述氧化镁涂层涂覆设备还包括集液斗,所述集液斗设于所述涂覆辊 竖直下方。

在本实用新型提供的氧化镁涂层涂覆设备的一种较佳实施例中, 所述氧化镁涂层涂覆设备还包括储液箱,所述储液箱与所述集液斗管 道连接。

在本实用新型提供的氧化镁涂层涂覆设备的一种较佳实施例中, 所述氧化镁涂层涂覆设备还包括循环泵,所述循环泵一端与所述储液 箱管道连接,另一端同时与二所述流量控制阀管道连接。

相较于现有技术,本实用新型提供的所述氧化镁涂层涂覆设备具 有以下有益效果:

一、所述氧化镁涂层涂覆设备设有所述流量控制阀,控制所述喷 头的流量,保证钢带的上下表面均获得足够的涂液,不影响钢带性能。

二、所述氧化镁涂层涂覆设备设有所述喷头,使涂液喷涂于所述 涂覆辊而不是钢带表面,减少了涂液的滴落,提高了涂液利用率。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案,下面将对实 施例描述中所使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的 附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲, 在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其它的附图, 其中:

图1是本实用新型提供的氧化镁涂层涂覆设备的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中 的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本实 用新型的一部分实施例,而不是全部的实施例。

请参阅图1,是本实用新型提供的氧化镁涂层涂覆设备的结构示 意图。

所述氧化镁涂层涂覆设备1包括机架11、二涂覆辊12、二喷头 13、二流量控制阀14、集液斗15、储液箱16和循环泵17。

二所述涂覆辊12沿竖直方向排列设于所述机架11,所述集液斗 15设于所述涂覆辊12的竖直下方,所述集液斗15、所述储液箱16 和所述循环泵17依次管道连接,所述循环泵17同时与二所述流量控 制阀14管道连接,二所述流量控制阀14分别与二所述喷头13管道 连接,二所述喷头13沿竖直方向排列设于二所述涂覆辊12的同一侧。

具体实施时,氧化镁涂液从二所述喷头13中喷出至二所述涂覆 辊12,待涂覆的钢带从二所述喷头13和二所述涂覆辊12之间穿过, 在所述涂覆辊12的作用下,氧化镁涂液均匀涂覆于钢带的表面,多 余的氧化镁涂液通过所述集液斗15收集,并循环使用。

二所述流量控制阀14分别控制二所述喷头13喷出的氧化镁涂液 的流量,保证钢带的上下表面均获得足够的氧化镁涂液。

相较于现有技术,本实用新型提供的所述氧化镁涂层涂覆设备1 具有以下有益效果:

一、所述氧化镁涂层涂覆设备1设有所述流量控制阀14,控制 所述喷头13的流量,保证钢带的上下表面均获得足够的涂液,不影 响钢带性能。

二、所述氧化镁涂层涂覆设备1设有所述喷头13,使涂液喷涂 于所述涂覆辊12而不是钢带表面,减少了涂液的滴落,提高了涂液 利用率。

以上所述仅为本实用新型的实施例,并非因此限制本实用新型的 专利范围,凡是利用本实用新型说明书内容所作的等效结构或等效流 程变换,或直接或间接运用在其它相关的技术领域,均同理包括在本 实用新型的专利保护范围之内。

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