[实用新型]一种光刻机光源

说明书

技术领域

本实用新型涉及硅片曝光技术领域，特别是涉及一种光刻机光源。

背景技术

曝光机在对硅片进行曝光时需要紫外线，现有紫外线光源均采用高压汞灯通过镜面折射法和直接照射法对硅片进行曝光，曝光后线条容易发虚，硅片与光刻版粘在一起，产生断片，造成不必要的浪费和生产效率的降低，主要原因就是现有的光源光强弱、曝光时间长、热量高，因此易粘片且光源寿命短，此外汞灯产生的臭氧较多，对人体伤害大，汞灯损坏后有剧毒，不环保且不利于工作人员的身体健康，因此如何提高光照强度，降低热量，提高光源寿命，降低功率，更加环保以及减少粘片及断片现象是本实用新型需要解决的问题。

发明内容

本实用新型的目的就是针对上述存在的缺陷而提供一种光刻机光源。本实用新型的光刻机光源光强度高、热量小、寿命长、功率小仅有现有技术的10%、环保无污染、使用寿命长、报废少，提高效率200%，曝光时间短，曝光后线条整齐，能够有效减少热源解决粘片现象。

本实用新型的一种光刻机光源技术方案为，包括10颗以上的紫外线灯珠均匀分布在光源板正面，紫外线灯珠通过导线连接到发生器上，发生器调节光源强度。

紫外线灯珠直径为0.1-10mm。

光源板背面沿紫外线灯珠分布方向设置有循环水管，循环水管连接冷水循环泵，冷水循环泵安装于发生器内。冷水经过发光源后循环回冷水循环泵，经制冷后继续循环使用。

光源板为边长110mm的正方形板，50颗直径为3mm的紫外线灯珠呈4个同心圆均匀分布在光源板正面，相邻两个同心圆之间的半径差为50-60mm。

每个紫外线灯珠的功率为2w，共100w。

使用所述的光刻机光源进行硅片曝光的方法，将硅片放置在版架之间，开启开关，紫外光照射在硅片上面，距离硅片80mm，紫外线强度12-20uw/cm2，曝光时间为5-8秒，达到曝光要求后自动停止光源，版架升起取下硅片。

本实用新型的一种光刻机光源有益效果为：本实用新型的光刻机光源光强度高、热量小、寿命长、功率小仅有现有技术的10%、环保无污染、使用寿命长、报废少，提高效率200%，曝光时间短（原来曝光时间为15秒-20秒，现在时间为5-8秒），曝光后线条整齐，能够有效减少热源解决粘片现象。

附图说明：

图1所示为本实用新型光刻机光源结构；

图2所示为现有光刻机光源结构。

其中，1-紫外线灯珠，2-光源板，3-冷水循环泵，4-发生器，5-高压汞灯，6-镜面。

具体实施方式：

为了更好地理解本实用新型，下面用具体实例来详细说明本实用新型的技术方案，但是本实用新型并不局限于此。

实施例１

现有技术中，用于硅片曝光的光刻机光源，采用高压汞灯5通过镜面6折射或直接照射对硅片进行曝光，高压汞灯5长度150mm，功率1000w，距离硅片高度140mm，紫外线强度约3-5uw/cm2。

本实用新型光源板2为边长110mm的正方形板，50颗直径为3mm的紫外线灯珠1呈4个同心圆均匀分布在光源板2正面，紫外线灯珠1通过导线连接到发生器4上，发生器4调节光源强度，相邻两个同心圆之间的半径差为50-60mm。

光源板2背面沿紫外线灯珠1分布方向设置有循环水管，循环水管连接冷水循环泵3，冷水循环泵3安装于发生器4内。冷水经过发光源后循环回冷水循环泵3，经制冷后继续循环使用。

每个紫外线灯珠1的功率为2w，共100w。

使用本实用新型所述的光刻机光源进行硅片曝光的方法，将硅片放置在版架之间，开启开关，紫外光照射在硅片上面，距离硅片80mm，紫外线强度12-20uw/cm2，曝光时间为5-8秒，达到曝光要求后自动停止光源，版架升起取下硅片。

本实用新型的光刻机光源光强度高、热量小、寿命长、功率小仅有现有技术的10%、环保无污染、使用寿命长、报废少，提高效率200%，曝光时间短（原来曝光时间为15秒-20秒，现在时间为5-8秒），曝光后线条整齐，能够有效减少热源解决粘片现象。