[实用新型]一种石膏结晶器有效

专利信息
申请号: 201520838564.2 申请日: 2015-10-26
公开(公告)号: CN205307855U 公开(公告)日: 2016-06-15
发明(设计)人: 封祁宁 申请(专利权)人: 封祁宁
主分类号: B01D9/02 分类号: B01D9/02;C01F11/46
代理公司: 广州三环专利代理有限公司 44202 代理人: 郝传鑫;宋静娜
地址: 510700 广东省广州市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 石膏 结晶器
【说明书】:

技术领域

实用新型是一种化工设备,尤其是一种用于石膏结晶的石膏结晶器。

背景技术

目前化工行业最常用的化学石膏结晶反应器如图1所示,所述石膏结晶反 应器包括容器10、与所述容器10上端连接的反应溶液加入管A12、反应溶液加 入管B14和调速搅拌器16,所述容器10上端还连接有垂直与所述容器10的两 个反应区间隔板15,所述两个反应区间隔板15之间形成反应区间,所述调速搅 拌器16上端连接有电机160,所述调速搅拌器16设于容器10中的反应区间内。 使用时,通过反应溶液加入管A12和反应液加入管B14将原料加入容器10中, 通过调速搅拌器16将原料在反应器中均混,相互反应,当产生的石膏 CaSO4.2H2O溶液浓度达到过饱和,于是在溶液中析出石膏晶体,石膏晶体在反 应器中随时间,及溶液浓度变化而变化,析出的石膏晶体利用重力作用,沉淀 到容器11底部,通过底部排除阀排往外部。

现有的结晶反应器对于石膏晶体的大小、快慢难控制,同时结晶体中较多 细小晶粒,难于从溶液中充分分离而残留于溶液中,对于溶液的质量产生负面 的影响,从而影响到下游工艺。产出的石膏中晶体颗粒大小分布广泛,尤有众 多细小晶体,不利于脱水。同时沉淀到容器底部的化学石膏易粘附在底部,形 成垢,难于清理。

实用新型内容

本实用新型的目的在于考虑上述问题而提供一种结构简单、实用和晶体均 匀、不易结垢的石膏结晶器。

为实现上述目的,本实用新型采取的技术方案是:一种石膏结晶器,包括 用于溶液反应的容器,所述容器顶端连接有反应液加入管A、反应液加入管B 和调速搅拌器,所述容器的顶部还设有两个反应区间隔板,所述两个反应区间 隔板的上端均垂直连接于所述容器的顶部,所述两个反应区间隔板之间形成反 应区间,所述调速搅拌器位于所述反应区间内;所述容器上部侧边设有澄清液 溢出口;所述容器的底部通过管道一连接有用于将晶体分级的水力旋流器,所 述管道一与所述水力旋流器的上部连接,所述水力旋流器的上端通过溢流返回 液管与所述容器连通,所述水力旋流器的下端连接有真空皮带脱水机。

本实用新型所述石膏结晶器,通过反应溶液加入管A和B将原料加入容器 中,通过调速搅拌器将原料在反应器中均混,相互反应,当产生的石膏 CaSO4.2H2O溶液浓度达到过饱和,于是在溶液中析出石膏晶体,石膏晶体在反 应器中随时间,及溶液浓度变化而变化,析出的石膏晶体利用重力作用,沉淀 到容器底部,通过底部排除阀排往水力旋流器,所述水力旋流器将晶体根据大 小进行分级,体积比较大晶体的通过水力旋流器的底部排往到真空皮带脱水机 进行脱水,体积比较小的晶体在水力旋流器的顶部通过溢流返回液管将溢流返 回液返回到容器中,作为晶种或小颗粒晶体继续长大。

作为上述技术方案的改进,所述水力旋流器为两组,分别为水力旋流器A、水 力旋流器B,所述容器的底部通过管道一连接水力旋流器A,所述水力旋流器A 的上端通过一级溢流返回液管与容器连通;所述水力旋流器A的下端分别通过 管道二、管道三与所述水力旋球器B的上部、真空皮带脱水机连接,所述水力 旋流器B的上端通过二级溢流返回液管与容器中连通,所述水力旋流器B的下 端通过管道与真空皮带脱水机相连。由于浆液中溶液或有不同特性,导致结晶 区间及时间不同,故在液体(水力旋流器溢流)返回线中,设计了两组水力旋 流器,可开一组,亦可开两组,视具体情况而定。

作为对上述技术方案的改进,所述容器的顶端还设置有压缩空气管,所述压缩 空气管位于所述反应区间内。压缩空气通过压缩空气管通往容器内,对于反应 器底部及壁上的结垢,可以起到吹扫清除的作用。压缩空气管带有调节阀,也 可通入空气,从而在结晶反应中起到辅助作用。

作为上述技术方案的改进,所述容器的顶端还设置有真空皮带滤液返回管,所 述真空皮带滤液返回管一端插入所述反应区间隔板内,所述真空皮带滤液返回 管另一端与真空皮带脱水机相连。所述水力旋流器将晶体根据大小进行分级, 体积比较大晶体的通过水力旋流器的底部排往到真空皮带脱水机进行脱水,为 了避免溶液对环境的污染和浪费,将真空皮带脱水机的脱水经过真空皮带滤液 返回管返回到容器中。

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