[实用新型]一种可清晰保存字迹的写字板有效
| 申请号: | 201520779858.2 | 申请日: | 2015-10-10 |
| 公开(公告)号: | CN205044363U | 公开(公告)日: | 2016-02-24 |
| 发明(设计)人: | 杜冰 | 申请(专利权)人: | 沈阳木本实业有限公司 |
| 主分类号: | B43L1/00 | 分类号: | B43L1/00 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 110000 辽宁*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 清晰 保存 字迹 写字板 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种可清晰保存字迹的写字板,属于写字板技术领域。
背景技术
随着电子时代的到来,孩子很小便接触网络和电子产品,随之而来的不良影响是儿童近视率的高发。
目前,很多幼儿早教的电子产品,操作便利,却忽视了孩子的动手能力,在学校教育教学上,也要求考核孩子的写字绘画能力,而学龄前儿童往往在没有学会正确写字之前,经常发生被铅笔划伤的意外,形成终生残疾的例子也不在少数。现有的写字板结构设计不够合理化,作为儿童玩具使用,功能比较单一,由于胶底材质的问题,字迹只能停留非常短的时间,且字迹不够清晰,长时间放置后字迹容易变模糊,无法反复书写,使用寿命较短,通常使用几次后,胶底便无法呈像失去使用功能,满足不了人们的使用需求。
发明内容
针对上述问题,本实用新型要解决的技术问题是提供一种可清晰保存字迹的写字板。
本实用新型的一种可清晰保存字迹的写字板,它包含薄膜上层、薄膜磨砂底层、墨层、条状双面胶层、不干胶层、不干胶底面保护层,薄膜上层的下方设置有薄膜磨砂底层,薄膜磨砂底层的下方设置有墨层,薄膜上层、薄膜磨砂底层和墨层之间通过条状双面胶层黏着固定,墨层附着在不干胶层的表面上,不干胶层的下方设置有不干胶底面保护层。
作为优选,所述的薄膜上层采用抗磨防紫外线硬化膜,厚度为25μ~125μ。
作为优选,所述的薄膜磨砂底层采用磨砂工艺,防止黏着的功能,厚度为Ra0.2~1.5μ。
作为优选,所述的墨层是采用丝网印刷的一种弱粘性的墨,厚度在20~100μ,印刷在不干胶表纸上,能保证字迹长时间清楚保留。
作为优选,所述的不干胶层的白边处设置有刻度线层,通过增加刻度,制作成简易的格尺,在书写的同时还具有测量功能。
作为优选,所述的不干胶底面保护层具有两用性,即可以粘贴在固定的平面上,比如桌子、墙面等手边方便使用的位置上,也可以不粘贴,不干胶底面保护层还可以起到保护的作用。
本实用新型的有益效果:它结构设计合理,制作简单,使用方便,功能多样化,安全环保,不仅能够达到方便练习的功能,还能保证学生的书写效果,价位经济实惠,适用范围比较广泛,满足了不同人群的使用需求。
附图说明:
为了易于说明,本实用新型由下述的具体实施及附图作以详细描述。
图1为本实用新型的结构示意图;
图2为本具体实施方式中印有米字格写字板结构示意图
图3为本具体实施方式中印有和英文格的写字板结构示意图。
1-薄膜上层;2-薄膜磨砂底层;3-墨层;4-条状双面胶层;5-不干胶层;6-不干胶底面保护层。
具体实施方式:
如图1-3所示,本具体实施方式采用以下技术方案:它包含薄膜上层1、薄膜磨砂底层2、墨层3、条状双面胶层4、不干胶层5、不干胶底面保护层6,薄膜上层1的下方设置有薄膜磨砂底层2,薄膜磨砂底层2的下方设置有墨层3,薄膜上层1、薄膜磨砂底层2和墨层3之间通过条状双面胶层4黏着固定,墨层3附着在不干胶层5的表面上,不干胶层5的下方设置有不干胶底面保护层6。
其中,所述的薄膜上层1采用抗磨防紫外线硬化膜,厚度为25μ~125μ;所述的薄膜磨砂底层2采用磨砂工艺,防止黏着的功能,厚度为Ra0.2~1.5μ;所述的墨层3是采用丝网印刷的一种弱粘性的墨,厚度在20~100μ,印刷在不干胶表纸上,能保证字迹长时间清楚保留;所述的不干胶层5的白边处设置有刻度线层,通过增加刻度,制作成简易的格尺,在书写的同时还具有测量功能;所述的不干胶底面保护层6具有两用性,即可以粘贴在固定的平面上,比如桌子、墙面等手边方便使用的位置上,也可以不粘贴,不干胶底面保护层6还可以起到保护的作用。
本具体实施方式可以在现有的基础上制作成印有米字格、英文格和绘画板等款式,便于学生进行汉字、英文和绘画的书写。
本具体实施方式结构设计合理,制作简单,使用方便,功能多样化,安全环保,不仅能够达到方便练习的功能,还能保证学生的书写效果,价位经济实惠,适用范围比较广泛,满足了不同人群的使用需求。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
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