[实用新型]一种氧化铝开孔瓷球填料有效
申请号: | 201520758817.5 | 申请日: | 2015-09-29 |
公开(公告)号: | CN204973927U | 公开(公告)日: | 2016-01-20 |
发明(设计)人: | 许怀圣;张明立;刘启红;刘继红 | 申请(专利权)人: | 萍乡市石化填料有限责任公司 |
主分类号: | B01J19/30 | 分类号: | B01J19/30 |
代理公司: | 萍乡益源专利事务所 36119 | 代理人: | 张放强 |
地址: | 337016 *** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 氧化铝 开孔瓷球 填料 | ||
技术领域
本实用新型涉及垫层材料或塔填料技术领域,尤其是一种氧化铝开孔瓷球填料。
背景技术
在石油、化工和天然气等行业中,瓷球被作为垫层材料或塔填料广泛使用,尤其常见是作为催化剂的覆盖支撑填料,它具有耐高温高压,吸水率低,化学性能稳定的特点,能经受酸、碱及其它有机溶剂的腐蚀,并能经受生产过程中出现的温度变化,而其中开孔瓷球是在原有的惰性瓷球上进行开孔,目的是为了提高其比表面积和空隙率,开孔瓷球更具有可以使净化器、反应器中的流体均匀分布,使传质传热反应均匀和高效的进行。不使反应物和热量集中、大量地出现于局部地方,防止塔器某些地方反应过于集中,某些地方反应不充分,并防止催化剂过热、烧焦、缩短使用寿命,但是目前的开孔瓷球虽然已经实现机械制造,但是制造精度都不是很高,存在瑕疵,例如毛刺、凸块,而瓷球上开设的孔形大多是等径孔,孔洞两头大小一致,各个流通孔之间相互隔离不连通,只要某些孔洞内存在毛刺或者杂质过多,就很容易堵塞气液流通,加大流通阻力,相对于现在快速发展的催化剂行业,目前作为塔填料的开孔瓷球的研究还欠缺很多,虽然相比原来的惰性瓷球改进了不少,但仍存在压降大、通量小、堆积重量大,堆积率不高的问题,因此,亟需对现有的开孔瓷球作进一步改进。
实用新型内容
针对上述现有开孔瓷球中所存在的问题,本实用新型提供了一种防止气液通道堵塞、高通量、压降小、比表面积大的氧化铝开孔瓷球填料。
本实用新型解决技术问题采用的技术方案是:一种氧化铝开孔瓷球填料,它包括本体,所述本体内具有蜂窝孔,本体外壁上呈环形设置有线流槽,本体内设置有贯穿本体底部和顶部的轴流孔,轴流孔中部设置有与轴流孔垂直相连通的直流孔,直流孔一端与锥形流孔的小口端连接,锥形流孔的大口端与本体外壁相连通。
进一步地,所述直流孔处于同一平面,并相互连通。
本实用新型的有益效果:相比现有技术,1、分别设置有相互连通的轴流孔和直流孔,使得气液流通阻力更小,传质传热以及分散更加均匀;2、在直流孔两端设置有锥形流孔,防止了边缘毛刺堵塞孔洞,压降降低;3、在本体外壁开设交错的线流槽,既提高了瓷球的比表面积和堆积率,又降低了单位瓷球的堆积重量。
附图说明
图1是本实用新型的主视结构示意图,
图2是图1的A-A剖视结构示意图。
在图中,1、本体2、轴流孔3、线流槽4、直流孔5、锥形流孔6、蜂窝孔。
具体实施方式
为了使本领域技术人员更好地理解本实用新型的技术方案,下面根据附图结合具体实施方式来进一步详细描述本实用新型。
如图1、2所示,一种氧化铝开孔瓷球填料主要由氧化铝、少量的高岭土、二氧化硅、造孔剂、粘接剂经球磨混合压制烧制而成,其氧化铝含量在45-90%,它包括本体1,本体直径为φ6-φ80mm,,轴流孔径直径为φ2-10mm,所述本体呈球形,所述本体内形成有若干蜂窝孔6,本体外壁上呈环形设置有在本体底部和顶部相交的四只线流槽3,本体内设置有一只贯穿本体底部和顶部的轴流孔2,轴流孔横截面可为圆形、三角形或者正多边形等,轴流孔中部同一平面环形设置有四个与轴流孔垂直相连通的直流孔4,直流孔一端与轴流孔相通,另一端连接锥形流孔5(一端大一端小,类似喇叭口)的小口端相通,锥形流孔的大口端连通本体的外壁。
本实用新型的氧化铝开孔瓷球填料是以α氧化铝粉、粘土及耐酸合成陶瓷颗粒为骨料,添加一定量的增塑剂、增强剂,采用双面干压、湿法手压、手工模压成型等成型,随着Al量增加,开孔瓷球抗折强度和硬度也上升,样品中的刚玉相也增多,由于刚玉相有较好的机械强度,故产品能抵抗强气流冲击、耐高温水汽、抗高温腐蚀性气体剥落性能也更强,与一般普通的开孔瓷球相比,堆积空隙率提高8-12%,比表面积提高了比表面积越大14-20%,使接触反应的效率大,汽液接触更加均匀,提高分布分散性能。适宜的比表面积和较高的空隙率,可以减少填料的堆积重量,使净化器、反应器中的流体均匀分布,传质传热反应均匀、高效的进行,不使反应物和热量集中,大量地出现于局部地方。
以上实施方式仅用以说明本实用新型的技术方案而非限制,尽管参照具体实施例对本实用新型进行了详细说明,本领域的普通技术人员应当理解,可以对本实用新型的技术方案进行修改或者等同替换,而不脱离本实用新型技术方案的精神和范围,其均应涵盖在本实用新型的权利要求保护的范围中。
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