[实用新型]一种可减少残留镀层碎片污染的工模具离子镀夹具

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种工模具离子镀夹具，尤其是涉及一种可减少残留镀层碎片污染的工模具离子镀夹具。

背景技术

离子镀工模具行业发展势头很猛，引进国外先进设备或开发使用国产设备、从事工模具镀膜越来越普遍，经过多年工模具离子镀膜实践认识到，现用的工模具装夹具，无论进口机帯来的还是国内自行开发的，使用起来都存在许多不理想的地方，其中主要缺点就是：上层装夹具上所沉积的镀层碎屑，在镀膜时会下落，污染了下层的工件，导致不良品增加。有的进口设备帯来的夹具结构还比较复杂，装卸和清理都比较麻烦。

这里选一款典型进口设备的装夹具为例说明。图1为该夹具示意图，公转和自转的转动部分都省略了，这里只给出了自转盘上实现工件自身转动的(准三维运动)的机构，自转盘上置有多套工件自转运动组件；图1-1为一自转盘组件局部放大示意图，工件自转轴1穿过嵌在自转盘2上的铜滑动轴套，伸至自轴盘2下方；工件自转轴1中部套装工件自转齿轮6，采用焊接把它与工件自转轴1固连在一起，齿轮端面坐在滑动轴套6凸肩上，工件转动连接套筒9的下端孔套在工件转轴7上以定位，且坐在齿轮上端面上，靠摩擦拖动工件转动连接套筒9转动，工件转动连接套筒9上端开孔，让工件或装夹工件的夹具插入定位，并随之旋转。外置有拨叉机构，当工件自转齿轮随着自转盘公、自转运动时，拨叉拨动工件自转齿轮，间歇地拨动其转动一个角度。通过自转盘上所有工件自转齿轮互相咬合，使所有齿轮都转动同一角度，也拖动所有连接套和套在其上的工件也转动同样角度，实现工件脉动式自转，实现准三维运动镀膜。

在这镀膜过程中，新镀在装夹机构的镀层、和以前残留在其上的镀层，由于结合不牢和热脹冷缩作用、以及运动中被碰击、挤压、研磨而崩裂、破碎、脱落成为碎屑，特別齿轮间的摩擦碰击、夹具运动时振动和摇摆，会产生更多镀层碎屑，现时采用单层並开有众多通孔的自转盘结构，许多碎屑就会从孔隙间下落至下一层的工件上，增加了不良品几率。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题，就是提供一种可减少残留镀层碎片污染的工模具离子镀夹具，可预防和减少碎屑的污染并提高成品率。

解决上述技术问题，本实用新型所采用的技术方案是：

一种可减少残留镀层碎片污染的工模具离子镀夹具，包括自转轴1以及若干通过中间开孔支承在所述自转轴上的自转盘2，自转盘2上设有工件自转轴4，其特征是：所述的自转盘分为上盘21和下盘22，上盘和下盘之间的自转轴上套有定位套筒3，所述的上盘靠近外圆圆周上开有均布孔，工件自转轴4的上端穿过上盘的均布孔以定位，工件自转轴4的下端支承在所述的下盘顶面靠近外圆周上。

所述的自转轴与支承在其上的上盘和下盘之间的配合为非圆截面和对应非圆孔的配合连接，使得三者之间共同转动。

所述的工件自转轴4的下端磨成球冠状。

所述的工件自转轴4位于上盘和下盘之间的部位设有自转齿轮6并相互啮合。

所述的自转盘2之间设有定位套筒5。

所述的工件自转轴4上端套装在工件连接套筒7下端的套筒孔内。

有益效果：本实用新型的双层自转盘且底盘无开孔的准三维运动机构，可减少和防止处于上层自转盘的镀层碎屑掉落下层做成污染。所谓三维运动是指工件自身旋动、同时又绕自转轴转动(自转)、而自转轴又绕着镀膜室中轴作大圆周转动(公转)。这里重点关注工件在自转盘上自转运动，特别是工件自身转动所导致的镀层碎屑下落造成的污染。在镀膜过程中，沉积粒子是隨机行为，只要没置遮挡，沉积粒子飞到夹具裸露的地方沉积成膜，这些地方基体未彻底清洁，故成膜结合不牢，膜层也不坚实，容易脱落碎化。自转盘上工件自转的传动机构多用齿轮加拨叉组合，不能遮挡屏蔽的，故都会沉积上不牢固的沉积物，关键是如何阻止镀层碎屑的下落。采用双层自转盘且底盘无开孔的设计，即可解决现有设计存在的问题。

附图说明

图1为现有的典型工模具夹具自转轴与自转盘组件示意图；

图1-1为图1的局部示意图；

图1-2为图1-1的局部放大示意图；

图2为本实用新型的夹具自转盘部份示意图；

图2-1为图2的自身转动装置部分局部示意图；

图2-2为夹具自转盘部分俯视示意图。

图中的附图标记：1-自转轴，2-自转盘，21-上盘，22-下盘，3-上下盘定位套筒，4-工件自转轴，5-自转盘定位套筒，6-工件自转齿轮，7-工件连接套筒。

具体实施方式