[实用新型]玻璃钝化硅晶圆的背面切割对位线的制作设备有效
| 申请号: | 201520714620.1 | 申请日: | 2015-09-15 |
| 公开(公告)号: | CN204954171U | 公开(公告)日: | 2016-01-13 |
| 发明(设计)人: | 李轶;丁波;徐伟涛;陈瀚;侯金松;杭海燕;裴紫伟;蒋松;张杰 | 申请(专利权)人: | 上海微世半导体有限公司 |
| 主分类号: | B23K26/362 | 分类号: | B23K26/362;B23K26/40;B23K26/70 |
| 代理公司: | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人: | 张坚 |
| 地址: | 201401 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 玻璃 钝化 硅晶圆 背面 切割 对位 制作 设备 | ||
1.一种玻璃钝化硅晶圆的背面切割对位线的制作设备,其特征在于:包括激光标刻装置、运动平台装置、成像装置、图像分析处理系统、工控机、输料装置和机械手;
所述激光标刻装置由反射镜、设于反射镜旁的激光器以及设于反射镜下方的聚焦镜构成;
所述运动平台装置由X/Y轴叠加运动平台、设于X/Y轴叠加运动平台上的θ轴旋转平台以及驱动聚焦镜的Z轴升降调节机构构成,所述聚焦镜位于所述θ轴旋转平台上方,朝向所述θ轴旋转平台;
所述成像装置有相机和光源构成,所述相机位于所述反射镜上方并通过成像镜筒与所述反射镜相连,所述光源设于聚焦镜旁;所述反射镜既能反射激光也能进行成像光源透光;所述输料装置和机械手位于所述运动平台旁;
所述X/Y轴叠加运动平台、所述θ轴旋转平台、所述激光器、输料装置、所述机械手和所述图像分析处理系统均与所述工控机电连接,所述图像分析处理系统还电连接所述相机。
2.根据权利要求1所述的玻璃钝化硅晶圆的背面切割对位线的制作设备,其特征在于:所述X/Y轴叠加运动平台采用直线电机或者伺服电机或者步进电机驱动,所述θ轴旋转平台采用涡轮蜗杆机构或者同步轮带机构或者DD马达直驱机构驱动;所述Z轴升降调节机构采用电动调节或螺旋测微头手动调节。
3.根据权利要求1所述的玻璃钝化硅晶圆的背面切割对位线的制作设备,其特征在于:所述X/Y轴叠加运动平台采用直线电机驱动;所述θ轴旋转平台采用DD马达直驱机构驱动;所述Z轴升降调节机构采用螺旋测微头手动调节。
4.根据权利要求1所述的玻璃钝化硅晶圆的背面切割对位线的制作设备,其特征在于:所述X/Y轴叠加运动平台和θ轴旋转平台均具有光栅尺,所述光栅尺与所述工控机电连接。
5.根据权利要求1所述的玻璃钝化硅晶圆的背面切割对位线的制作设备,其特征在于:在所述θ轴旋转平台上方设有吹气装置,在所述聚焦镜的镜头旁设有朝向所述θ轴旋转平台上表面的抽尘装置。
6.根据权利要求1所述的玻璃钝化硅晶圆的背面切割对位线的制作设备,其特征在于:所述θ轴旋转平台上设有真空吸附平台,所述工控机还与所述真空吸附平台的真空控制开关电连接。
7.根据权利要求1所述的玻璃钝化硅晶圆的背面切割对位线的制作设备,其特征在于:所述图像分析处理系统具有显示器。
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